Файл: Зевин, Л. С. Количественный рентгенографический фазовый анализ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 23.10.2024

Просмотров: 72

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Расчетные методы

Для расчета концентраций по уравнению (1,22) необходимо знать величины коэффициентов ßjV= —— . Здесь kt — коэффи-

циент, объединяющий ряд постоянных в уравнениях (1,1) и (1,5).

Согласно определению kt = -^k^^k^U где кх\ к2; U0 при выбран­

ных условиях опыта являются постоянными, а кзі характеризует выбранный аналитический пик и определяется кристаллической структурой фазы. Выражение для кзі приведено в уравнении (1,1). Таким образом,

D _

hi Pr

(1 + cos2 2Qi) cos ѲЛsin2 0АМ,-Л^|рг | F |f

[ '

P(> _

hrPi

(1 + cos22ѲГ) cos Ѳ; Sin2 Q[MrN*pi \ F |*

Обозначения входящих сюда величин такие же, как и в уравне­ нии (1 ,1 ).

Для расчета коэффициентов ßir необходимо знать кристалли­ ческую структуру фаз і и г. Если последняя известна, то сам расчет структурных факторов в общем не представляет трудности, особенно если учесть возможность использования электронных вычислитель­ ных машин. Погрешность расчета ßir по уравнению (1,66) практи­ чески целиком определяется погрешностью расчета f и в конечном итоге погрешностями определения координат атомов в элементарной ячейке. Аналитические пики обычно выбираются под небольшими углами рассеяния и соответственно имеют малые индексы hkl, по-

-этому их интенсивность не очень чувствительна к небольшим сме­ щениям атомов, включая и тепловое движение.

Для некоторых методов анализа необходимо рассчитывать вели­ чины ß,- = кі/Рі- Для такого расчета нужно использовать стандарт­ ное вещество. Пусть интенсивность дифракционного пика стандарт­

ного вещества, для которого хорошо известна кристаллическая структура, измеряется в тех же экспериментальных условиях, что и интенсивность аналитических пиков в анализируемых пробах. Тогда

kik2k3rUо

(1,67)

2ргр*

 

Напишем далее выражение для искомого коэффициента ß4-

 

 

( 1,68)

Значение величины k1-k 2-U 0, определяемой условиями экспери­ мента, выразим из уравнения (1,67). Окончательно для ß, получим

ß/ =

к3і

(1,69)

кзг

41


Выражение для

— подробно выписано в уравнении (1,06).

 

/і'З r • р /

Все величины, входящие в уравнение (1,(59), можно либо измерить (Jr0), либо рассчитать, если известны кристаллические структуры определяемой фазы и стандартного вещества. Последнее должно быть стабильным во времени, не склонным к образованию текстуры, состоять из достаточно мелких кристалликов, иметь простую струк­ туру (атомы в частных положениях). Таким веществом может слу-'\_ жить, например, карбонильный никель, использованный в между­ народном проекте по оценке точности измерения интегральных интенсивностей на порошках [531Опубликованы обзоры работ по точному измерению и расчету интенсивностей для ряда ионных кристаллов и полупроводниковых соединений [149, 221].

Используя уравнение (1,69), рассчитывают коэффициенты ßt-, а затем и интегральные интенсивности для всех дифракционных пиков. Если далее синтезировать профили дифракционных пиков путем свертки инструментальных функций со спектральным распре­ делением [39], то можно полностью рассчитать дифрактограмму. При этом не учитывается размытие, вызываемое структурными осо­ бенностями фазы. При общем хорошем соответствии интегральных интенсивностей это приводит к значительным расхождениям изме­ ренных и рассчитанных интенсивностей в максимумах пиков [107]. Дальнейшее развитие -теории рассеяния рентгеновских лучей реаль­ ными кристаллами и более точный учет инструментальных факторов позволят точно рассчитать дифрактограмму чистых фаз. На этой основе можно будет не только определить коэффициенты ß(-, но и оценить характеристики наложений дифракционных пиков — коэффициенты 'ciij в уравнениях (1,18).

Работы по расчету дифрактограмм порошков с известной струк­ турой интенсивно развиваются [107, 108, 153]. В настоящее время опубликованы данные для калиевых и натриевых полевых шпатов, анортита, цельзиана [107; 108]. Развитие рентгеновской дифрактометрии монокристаллов и вычислительной техники значительно повышает точность структурного анализа, что определяет перспек­ тивность дальнейшего развития рассмотренного расчетного метода в количественном фазовом анализе.

§ 7. ОПРЕДЕЛЕНИЕ СОДЕРЖАНИЯ АМОРФНОЙ ФАЗЫ

Эта задача вполне реальна, так как стекло является обычным компонентом магматических пород. Для стеклокристаллических материалов (ситаллов) содержание аморфной фазы является важней­ шей характеристикой. Используются два основных способа опре-^ деления содержания аморфной фазы са.

1. Определение концентрации всех кристаллических фаз и вы­ числение са как разности

т

(1,70)

О, = 1 — У О,

1=1

 

42


где С[ — концентрация t-той кристаллической фазы; т — число кристаллических фаз.

2. Непосредственное определение содержания аморфной фазы. Первый способ довольно очевиден. Анализ кристаллических фаз нужно вести либо методом внутреннего стандарта, либо незави­ симым методом определять массовый коэффициент поглощения

образца [187].

Возможность второго способа анализа определяется тем, что интенсивность когерентного рассеяния аморфной фазой пропорци­ ональна содержанию последней. Кривая аморфного рассеяния содер­ жит один или несколько размытых максимумов, обычно в области небольших углов рассеяния. Измерение интенсивности в этом случае требует высокой экспериментальной техники, так как на рассеяние аморфной фазой накладывается рассеяние белого излучения образ­ цом, рассеяние воздухом, некогерентное и тепловое диффузное рас­ сеяние. Поэтому измерения лучше проводить на монохроматическом излучении с помощью кристаллического монохроматора. Известны два метода непосредственного определения содержания аморфной

фазы: с

помощью

эталонов [194] и

безэталонный. Концентрация

аморфной фазы первым методом определяется по формуле

 

 

 

са — <— >а°

г -

(1,71)

где / а0

— интенсивность рассеяния полностью аморфным образцом

(чистым

стеклом)

под некоторым фиксированным углом

2Ѳ; J a

^ интенсивность рассеяния исследуемым образцом под тем же углом; Jb — интенсивность рассеяния смесью кристаллических фаз, име­ ющей аналогичный стеклу химический состав.

Угол 2Ѳ выбирается таким, чтобы рассеяние аморфной составля­ ющей было достаточно сильным и в то же время не было бы нало­ жений дифракционных пиков кристаллических фаз. Съемка образца, не содержащего аморфной фазы, необходима для учета фона, обусло­ вленного указанными выше причинами. Более точной мерой интен­ сивности рассеяния стеклом является измерение интегральной интен­ сивности одного или нескольких основных пиков кривой рассеяния (гало). Интенсивность аморфного гало предлагается характеризовать углом наклона секущей [195], но правомерность таких измерений сомнительна.

Важным требованием описанного метода является неизменность химического состава аморфной фазы. Например, в случае анализа ситаллов ошибка в определении содержания стеклофазы может быть ^ вызвана тем, что обычно используются стекла, состав которых не отвечает стехиометрическому составу кристаллизующейся фазы, а это неизбежно вызывает изменение состава стекла в процессе кри­ сталлизации. Следовательно, интенсивность рассеяния стеклофазой будет изменяться не только за счет изменения ее содержания в образце, но и за счет изменения ее состава. Особенно неблагопри­ ятны те случаи, когда в стеклофазе изменяется содержание тяжелых

43


элементов, обладающих большой рассеивающей способностью. Отмечается изменение интенсивности и положения гало рассеяния аморфной фазой в вулканических стеклах с последовательно увели­

чивающимся содержанием Si0 2

— от базальтового до андезитового

и риолитового [195]. Таким

образом, важно подчеркнуть необ­

ходимость правильного выбора эталонного вещества — чистого стекла.

Безэталонный метод определения содержания аморфной ‘ фазы основан на законе сохранения интенсивности рассеяния [1; 9]. Средняя (в обратном пространстве) интенсивность рассеяния не

зависит от структуры объекта и определяется выражением

[9]

f /

(г*) dVr*

 

 

J limy

 

 

(1,72)

г*~> со

*

 

 

Подставляя в уравнение (1,72) значение г* ~

^ и

учитывая

сферическую симметрию распределения интенсивности рассеяния поликристаллом в обратном пространстве, получим

3

®шах

J J (Ѳ) sin2 Ѳcos Ѳdd

J =

(1,73)

 

sin3 Ѳт ах

где Ѳтах — максимальное

значение угла Ѳ, получаемое в экспе­

рименте.

Если обозначить среднюю интенсивность рассеяния образцом

через / п, а среднюю интенсивность рассеяния аморфной фазой / а, то относительное содержание последней в'образце равно

(1,74)

Для того чтобы воспользоваться уравнением (1,74), необходимо предварительно на экспериментальной кривой интенсивности выде­ лить кривую рассеяния аморфной фазой / а (Ѳ), построить кривые J (Ѳ) sin2 Ѳcos Ѳв функции угла Ѳ для полного рассеяния / п и рас­ сеяния аморфной составляющей / а. Затем по уравнению (1,73) вы­

числяются средние значения / а и / п. Однако среднюю интенсивность

полного рассеяния в обратном пространстве / п можно определить с помощью кривой независимого рассеяния всеми атомами образца

при отсутствии интерференции

[43 J

 

3 ) 2

fi (Ѳ) ті sm2 Ѳcos ѲdQ

ч

 

J = —-

sin3 Ѳп

(1,75)

 

 

где ті — число атомов г-того сорта в молекуле; /,• — функция атом­ ного рассеяния.

44


Величина погрешности в определении / а определяется той точ­ ностью, с которой из экспериментальной кривой может быть полу­ чена кривая рассеяния аморфной фазой. Если съемка рентгено­ граммы производится на монохроматизированном излучении

ввакуумной камере, то интенсивность полного диффузного рас­ сеяния складывается из рассеяния аморфной фазой, части теплового и некогерентного рассеяния; кроме того, в случае мелкодисперсного состояния кристаллической фазы ее рассеяние на больших углах приближается к независимому. Интенсивность некогерентного рас­ сеяния рассчитывают по таблицам [62]. Относительное содержание аморфной фазы са может быть получено, если интегрирование вести

впределах от 0 до некоторого г* = 0,3 0,4, т. е. по той части экспериментальной кривой, где структурные максимумы хорошо

выделяются на фоне диффузного рассеяния [43].

Точность метода при са > 0,5 не ниже 5%, при са < 0 ,3 метод не рекомендуется. Основным недостатком метода является невоз­ можность учесть изменение состава аморфной фазы.

Г л а в а ] I

АППАРАТУРА ДЛЯ КОЛИЧЕСТВЕННОГО

ФАЗОВОГО АНАЛИЗА

§ 1. РЕНТГЕНОВСКИЕ КАМЕРЫ И ДЕНСИТОМЕТРЫ

Используя рентгеновскую камеру и денситометр (микрофото­

 

метр), можно измерить интенсивность дифракционных линий и про­

 

вести количественный

фазовый анализ [77].

Однако

этот

способ

 

измерения интенсивности намного сложнее и менее точен, чем ди-

 

фрактометрический. Фотографическая регистрация предпочтительна

 

в тех случаях, когда имеется очень малое количество пробы или

 

необходимо избежать сильной текстуры при приготовлении образца.

 

Камера Дебая — Шеррера при всей простоте конструкции и удоб­

 

стве

эксплуатации

обладает

существенным недостатком

— низкой

 

разрешающей способностью, что ограничивает возможность ее исполь­

f

зования при анализе сложных многофазных систем. Минимальная

ширина линии

А20 «=* b/L,

где

b — ширина

входной

диафрагмы

 

и L — расстояние от входной диафрагмы до образца. Дополнитель­

 

ное

размытие линии

вызывается

конечными

размерами

образца

 

и имеет порядок

d/R (d — диаметр образца и 7? — радиус камеры).

 

При

b ^ d

^ 0 ,4

мм

линии

имеют угловую

ширину

А2Ѳ — 0,8°

 

для камеры диаметром 57,3 мм (РКД), —■0,4° для камеры диаметром

 

114,6 мм (РКУ)

и

0,3° для

камеры диаметром 143,5 мм

(ВРС-3).

 

В дифрактометре

величина

А2Ѳ «=0,1—0,2°.

Работа

с

камерами

 

диаметром большим 143 мм нерациональна из-за резкого увеличения

 

экспозиций. Можно добиться значительного сокращения экспозиций

 

без ухудшения разрешающей способности, если применить мини­

 

атюрные камеры (диаметр 20—30 мм) в сочетании с острофокусной

 

рентгеновской трубкой. Для работы с острофокусной трубкой отече­

 

ственной промышленности выпускаются рентгеновские аппараты

 

МАРС-2. Величина множителя поглощения при съемке в камере

Ч

Дебая — Шеррера определяется не только составом вещества пробы,

но и диаметром образца и плотностью набивки (при съемке в капил­

 

ляре). Если диаметр образца

0,3—0,5 мм, то для силикатов вели­

 

чина

[id ^

2 -4- 4 и при изменении плотности образца на

10% мно­

 

житель поглощения изменится для углов 2Ѳ я« 20—40° на 15—

 

20%

[62]. Поэтому даже при анализе систем с постоянным массовым

 

46