Файл: Зевин, Л. С. Количественный рентгенографический фазовый анализ.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 23.10.2024
Просмотров: 72
Скачиваний: 0
Расчетные методы
Для расчета концентраций по уравнению (1,22) необходимо знать величины коэффициентов ßjV= —— . Здесь kt — коэффи-
циент, объединяющий ряд постоянных в уравнениях (1,1) и (1,5).
Согласно определению kt = -^k^^k^U где кх\ к2; U0 при выбран
ных условиях опыта являются постоянными, а кзі характеризует выбранный аналитический пик и определяется кристаллической структурой фазы. Выражение для кзі приведено в уравнении (1,1). Таким образом,
D _ |
hi Pr |
(1 + cos2 2Qi) cos ѲЛsin2 0АМ,-Л^|рг | F |f |
’ |
[ ' |
P(> _ |
hrPi |
(1 + cos22ѲГ) cos Ѳ; Sin2 Q[MrN*pi \ F |* |
Обозначения входящих сюда величин такие же, как и в уравне нии (1 ,1 ).
Для расчета коэффициентов ßir необходимо знать кристалли ческую структуру фаз і и г. Если последняя известна, то сам расчет структурных факторов в общем не представляет трудности, особенно если учесть возможность использования электронных вычислитель ных машин. Погрешность расчета ßir по уравнению (1,66) практи чески целиком определяется погрешностью расчета f и в конечном итоге погрешностями определения координат атомов в элементарной ячейке. Аналитические пики обычно выбираются под небольшими углами рассеяния и соответственно имеют малые индексы hkl, по-
-этому их интенсивность не очень чувствительна к небольшим сме щениям атомов, включая и тепловое движение.
Для некоторых методов анализа необходимо рассчитывать вели чины ß,- = кі/Рі- Для такого расчета нужно использовать стандарт ное вещество. Пусть интенсивность дифракционного пика стандарт
ного вещества, для которого хорошо известна кристаллическая структура, измеряется в тех же экспериментальных условиях, что и интенсивность аналитических пиков в анализируемых пробах. Тогда
kik2k3rUо |
(1,67) |
|
2ргр* |
||
|
||
Напишем далее выражение для искомого коэффициента ß4- |
|
|
|
( 1,68) |
Значение величины k1-k 2-U 0, определяемой условиями экспери мента, выразим из уравнения (1,67). Окончательно для ß, получим
ß/ = |
к3і |
(1,69) |
кзг |
41
Выражение для |
— подробно выписано в уравнении (1,06). |
|
/і'З r • р / |
Все величины, входящие в уравнение (1,(59), можно либо измерить (Jr0), либо рассчитать, если известны кристаллические структуры определяемой фазы и стандартного вещества. Последнее должно быть стабильным во времени, не склонным к образованию текстуры, состоять из достаточно мелких кристалликов, иметь простую струк туру (атомы в частных положениях). Таким веществом может слу-'\_ жить, например, карбонильный никель, использованный в между народном проекте по оценке точности измерения интегральных интенсивностей на порошках [531Опубликованы обзоры работ по точному измерению и расчету интенсивностей для ряда ионных кристаллов и полупроводниковых соединений [149, 221].
Используя уравнение (1,69), рассчитывают коэффициенты ßt-, а затем и интегральные интенсивности для всех дифракционных пиков. Если далее синтезировать профили дифракционных пиков путем свертки инструментальных функций со спектральным распре делением [39], то можно полностью рассчитать дифрактограмму. При этом не учитывается размытие, вызываемое структурными осо бенностями фазы. При общем хорошем соответствии интегральных интенсивностей это приводит к значительным расхождениям изме ренных и рассчитанных интенсивностей в максимумах пиков [107]. Дальнейшее развитие -теории рассеяния рентгеновских лучей реаль ными кристаллами и более точный учет инструментальных факторов позволят точно рассчитать дифрактограмму чистых фаз. На этой основе можно будет не только определить коэффициенты ß(-, но и оценить характеристики наложений дифракционных пиков — коэффициенты 'ciij в уравнениях (1,18).
Работы по расчету дифрактограмм порошков с известной струк турой интенсивно развиваются [107, 108, 153]. В настоящее время опубликованы данные для калиевых и натриевых полевых шпатов, анортита, цельзиана [107; 108]. Развитие рентгеновской дифрактометрии монокристаллов и вычислительной техники значительно повышает точность структурного анализа, что определяет перспек тивность дальнейшего развития рассмотренного расчетного метода в количественном фазовом анализе.
§ 7. ОПРЕДЕЛЕНИЕ СОДЕРЖАНИЯ АМОРФНОЙ ФАЗЫ
Эта задача вполне реальна, так как стекло является обычным компонентом магматических пород. Для стеклокристаллических материалов (ситаллов) содержание аморфной фазы является важней шей характеристикой. Используются два основных способа опре-^ деления содержания аморфной фазы са.
1. Определение концентрации всех кристаллических фаз и вы числение са как разности
т |
(1,70) |
О, = 1 — У О, |
|
1=1 |
|
42
где С[ — концентрация t-той кристаллической фазы; т — число кристаллических фаз.
2. Непосредственное определение содержания аморфной фазы. Первый способ довольно очевиден. Анализ кристаллических фаз нужно вести либо методом внутреннего стандарта, либо незави симым методом определять массовый коэффициент поглощения
образца [187].
Возможность второго способа анализа определяется тем, что интенсивность когерентного рассеяния аморфной фазой пропорци ональна содержанию последней. Кривая аморфного рассеяния содер жит один или несколько размытых максимумов, обычно в области небольших углов рассеяния. Измерение интенсивности в этом случае требует высокой экспериментальной техники, так как на рассеяние аморфной фазой накладывается рассеяние белого излучения образ цом, рассеяние воздухом, некогерентное и тепловое диффузное рас сеяние. Поэтому измерения лучше проводить на монохроматическом излучении с помощью кристаллического монохроматора. Известны два метода непосредственного определения содержания аморфной
фазы: с |
помощью |
эталонов [194] и |
безэталонный. Концентрация |
|
аморфной фазы первым методом определяется по формуле |
|
|||
|
|
са — <— >а° |
г - |
(1,71) |
где / а0 |
— интенсивность рассеяния полностью аморфным образцом |
|||
(чистым |
стеклом) |
под некоторым фиксированным углом |
2Ѳ; J a — |
^ интенсивность рассеяния исследуемым образцом под тем же углом; Jb — интенсивность рассеяния смесью кристаллических фаз, име ющей аналогичный стеклу химический состав.
Угол 2Ѳ выбирается таким, чтобы рассеяние аморфной составля ющей было достаточно сильным и в то же время не было бы нало жений дифракционных пиков кристаллических фаз. Съемка образца, не содержащего аморфной фазы, необходима для учета фона, обусло вленного указанными выше причинами. Более точной мерой интен сивности рассеяния стеклом является измерение интегральной интен сивности одного или нескольких основных пиков кривой рассеяния (гало). Интенсивность аморфного гало предлагается характеризовать углом наклона секущей [195], но правомерность таких измерений сомнительна.
Важным требованием описанного метода является неизменность химического состава аморфной фазы. Например, в случае анализа ситаллов ошибка в определении содержания стеклофазы может быть ^ вызвана тем, что обычно используются стекла, состав которых не отвечает стехиометрическому составу кристаллизующейся фазы, а это неизбежно вызывает изменение состава стекла в процессе кри сталлизации. Следовательно, интенсивность рассеяния стеклофазой будет изменяться не только за счет изменения ее содержания в образце, но и за счет изменения ее состава. Особенно неблагопри ятны те случаи, когда в стеклофазе изменяется содержание тяжелых
43
элементов, обладающих большой рассеивающей способностью. Отмечается изменение интенсивности и положения гало рассеяния аморфной фазой в вулканических стеклах с последовательно увели
чивающимся содержанием Si0 2 |
— от базальтового до андезитового |
и риолитового [195]. Таким |
образом, важно подчеркнуть необ |
ходимость правильного выбора эталонного вещества — чистого стекла.
Безэталонный метод определения содержания аморфной ‘ фазы основан на законе сохранения интенсивности рассеяния [1; 9]. Средняя (в обратном пространстве) интенсивность рассеяния не
зависит от структуры объекта и определяется выражением |
[9] |
||
f / |
(г*) dVr* |
|
|
J —limy |
|
|
(1,72) |
г*~> со |
* |
|
|
Подставляя в уравнение (1,72) значение г* ~ |
^ и |
учитывая |
сферическую симметрию распределения интенсивности рассеяния поликристаллом в обратном пространстве, получим
3 |
®шах |
J J (Ѳ) sin2 Ѳcos Ѳdd |
|
J = |
(1,73) |
|
sin3 Ѳт ах |
где Ѳтах — максимальное |
значение угла Ѳ, получаемое в экспе |
рименте.
Если обозначить среднюю интенсивность рассеяния образцом
через / п, а среднюю интенсивность рассеяния аморфной фазой / а, то относительное содержание последней в'образце равно
(1,74)
Для того чтобы воспользоваться уравнением (1,74), необходимо предварительно на экспериментальной кривой интенсивности выде лить кривую рассеяния аморфной фазой / а (Ѳ), построить кривые J (Ѳ) sin2 Ѳcos Ѳв функции угла Ѳ для полного рассеяния / п и рас сеяния аморфной составляющей / а. Затем по уравнению (1,73) вы
числяются средние значения / а и / п. Однако среднюю интенсивность
полного рассеяния в обратном пространстве / п можно определить с помощью кривой независимого рассеяния всеми атомами образца
при отсутствии интерференции |
[43 J |
|
3 ) 2 |
fi (Ѳ) ті sm2 Ѳcos ѲdQ |
ч |
|
||
J = —- |
sin3 Ѳп |
(1,75) |
|
|
где ті — число атомов г-того сорта в молекуле; /,• — функция атом ного рассеяния.
44
Величина погрешности в определении / а определяется той точ ностью, с которой из экспериментальной кривой может быть полу чена кривая рассеяния аморфной фазой. Если съемка рентгено граммы производится на монохроматизированном излучении
ввакуумной камере, то интенсивность полного диффузного рас сеяния складывается из рассеяния аморфной фазой, части теплового и некогерентного рассеяния; кроме того, в случае мелкодисперсного состояния кристаллической фазы ее рассеяние на больших углах приближается к независимому. Интенсивность некогерентного рас сеяния рассчитывают по таблицам [62]. Относительное содержание аморфной фазы са может быть получено, если интегрирование вести
впределах от 0 до некоторого г* = 0,3 — 0,4, т. е. по той части экспериментальной кривой, где структурные максимумы хорошо
выделяются на фоне диффузного рассеяния [43].
Точность метода при са > 0,5 не ниже 5%, при са < 0 ,3 метод не рекомендуется. Основным недостатком метода является невоз можность учесть изменение состава аморфной фазы.
Г л а в а ] I
АППАРАТУРА ДЛЯ КОЛИЧЕСТВЕННОГО
ФАЗОВОГО АНАЛИЗА
§ 1. РЕНТГЕНОВСКИЕ КАМЕРЫ И ДЕНСИТОМЕТРЫ
Используя рентгеновскую камеру и денситометр (микрофото |
|
|||||||||||
метр), можно измерить интенсивность дифракционных линий и про |
|
|||||||||||
вести количественный |
фазовый анализ [77]. |
Однако |
этот |
способ |
|
|||||||
измерения интенсивности намного сложнее и менее точен, чем ди- |
|
|||||||||||
фрактометрический. Фотографическая регистрация предпочтительна |
|
|||||||||||
в тех случаях, когда имеется очень малое количество пробы или |
|
|||||||||||
необходимо избежать сильной текстуры при приготовлении образца. |
|
|||||||||||
Камера Дебая — Шеррера при всей простоте конструкции и удоб |
|
|||||||||||
стве |
эксплуатации |
обладает |
существенным недостатком |
— низкой |
|
|||||||
разрешающей способностью, что ограничивает возможность ее исполь |
f |
|||||||||||
зования при анализе сложных многофазных систем. Минимальная |
||||||||||||
ширина линии |
А20 «=* b/L, |
где |
b — ширина |
входной |
диафрагмы |
|
||||||
и L — расстояние от входной диафрагмы до образца. Дополнитель |
|
|||||||||||
ное |
размытие линии |
вызывается |
конечными |
размерами |
образца |
|
||||||
и имеет порядок |
d/R (d — диаметр образца и 7? — радиус камеры). |
|
||||||||||
При |
b ^ d |
^ 0 ,4 |
мм |
линии |
имеют угловую |
ширину |
А2Ѳ — 0,8° |
|
||||
для камеры диаметром 57,3 мм (РКД), —■0,4° для камеры диаметром |
|
|||||||||||
114,6 мм (РКУ) |
и |
0,3° для |
камеры диаметром 143,5 мм |
(ВРС-3). |
|
|||||||
В дифрактометре |
величина |
А2Ѳ «=0,1—0,2°. |
Работа |
с |
камерами |
|
||||||
диаметром большим 143 мм нерациональна из-за резкого увеличения |
|
|||||||||||
экспозиций. Можно добиться значительного сокращения экспозиций |
|
|||||||||||
без ухудшения разрешающей способности, если применить мини |
|
|||||||||||
атюрные камеры (диаметр 20—30 мм) в сочетании с острофокусной |
|
|||||||||||
рентгеновской трубкой. Для работы с острофокусной трубкой отече |
|
|||||||||||
ственной промышленности выпускаются рентгеновские аппараты |
|
|||||||||||
МАРС-2. Величина множителя поглощения при съемке в камере |
Ч |
|||||||||||
Дебая — Шеррера определяется не только составом вещества пробы, |
||||||||||||
но и диаметром образца и плотностью набивки (при съемке в капил |
|
|||||||||||
ляре). Если диаметр образца |
0,3—0,5 мм, то для силикатов вели |
|
||||||||||
чина |
[id ^ |
2 -4- 4 и при изменении плотности образца на |
10% мно |
|
||||||||
житель поглощения изменится для углов 2Ѳ я« 20—40° на 15— |
|
|||||||||||
20% |
[62]. Поэтому даже при анализе систем с постоянным массовым |
|
46