Файл: Комов, А. Н. Физические основы микроэлектроники учеб. пособие.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 29.10.2024

Просмотров: 89

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Температурная зависимость электропроводности полупроводни­ ков, которая выражена значительно сильнее, чем у металла, нашла применение в изготовлении термосопротивлений или термисторов, получивших широкое применение в приборах для измерения и р.егу-

*

Рис. 42. Изменение подвижности носителей заряда

от темпе­

ратуры.

 

 

лирования температуры, для измерения силы

тока,

темпера­

турной .компенсации элементов электрической

цепи,

измере­

ния мощности ультракоротких волн, в вакуумметрах, в болометрах и т. д.

§5. Эффект Ганна

Одним из существенных открытий в последние годы в полупро­ водниковой электронике является открытие возникновения электри­

ческих колебаний в однородном полупроводнике

при наложении

постоянного электрического поля—эффект Ганна.

 

 

В настоящее время уже работают диоды Ганна с полезной мощ­

ностью порядка 1000 вт (импульсный

режим),

генераторы СВЧ-

коле'баний на основе этого эффекта,

усилители

 

СВЧ-колебаний.

Внедрение полупроводников в СВЧ-электронику

должно привести

в этой области к качественному скачку.

 

 

однородного по­

Диоды Ганна, использующие явления в объеме

 

лупроводника, имеют значительное преимущество

перед такими

диодами, как туннельные диоды, СВЧ-транзисторы,

лавинопролет­

ные диоды, у которых используется только узкий слой полупровод-

98


ника, что усложняет проблему рассеяния тепла, а тем самым увели­ чение полезной мощности.

В основе действия диодов Ганна лежит убывание объемной про­ водимости полупроводника с ростом напряженности электрического поля, то есть наличие на вольтамперной характеристике участка с отрицательным дифференциальным сопротивлением.

Если в некоторой области токов (или электрических полей) па вольтамперной характеристике имеется участок с отрицательным дифференциальным сопротивлением, то состояние с равномерным распределением тока (или поля) можетоказаться неустойчивым. При этом вольтамперная характеристика имеет 5-образную форму, т. е. одному значению напряжения соответствуют несколько значений тока, и в системе появляются условия для образования шнуров-ка­ налов с повышенной плотностью тока. Если же характеристика N- образной формы (одному значению тока соответствуют несколько значений напряжения), то возникает тенденция к образованию до­ менов, то есть расслоению электрически однородного при малых полях образца на области с разным удельным сопротивлением и, следовательно, к образованию областей с существенно разной на­ пряженностью электрического поля. Домены и шнуры могут возни­ кать и исчезать, перемещаться по кристаллу или же колебаться около некоторого положения равновесия в зависимости от целого ряда внешних и внутренних факторов. Все это приводит к измене­ нию сопротивления кристалла между контактами и появлению электрических колебаний, В настоящее время показано, что тако­ го рода явления позволяют создавать твердотельные генераторы довольно большой мощности и с широким диапазоном частот. Рас­ смотрим один из методов создания отрицательного сопротивления в полупроводниковых кристаллах. Для этого воспользуемся неко­ торыми особенностями структуры энергетических зон, приводящи­ ми к возникновению отрицательной эффективной массы.

Зона проводимости и валентная зона в полупроводниках состо­ ят из некоторого числа подзон, причем для обычной проводимости существенны только подзоны с наименьшей энергией носителей.

Расстояние между ними может составлять значительную долю электроновольта.

Например, в германии зона проводимости имеет четыре семей­ ства эллипсоидальных поверхностей постоянной энергии в направ­ лении (111) в k — пространстве, тогда как валентная зона дважды вырождена при k = 0, причем эти две вырожденные зоны дают лег­ кие и тяжелые дырки.

Путем деформации кристаллов можно разделить семейство подзон. Так, при деформации кристалла Ge в зоне проводимости эти две долины снижаются и две поднимаются, а в ва­ лентной зоне вырождение снимается и появляются две подзоны, раз­ деленные по энергии. Тогда носители заряда в подзонах будут иметь разную эффективную массу соответственно кривизне зон и направлению приложенного электрического поля. Средняя эффек­

7* 99



тивная масса, а, -следовательно, и проводимость кристалла будут зависеть от относительных заселенностей каждой подзоны, которые являются функциями температуры носителей. Внешнее электриче­ ское поле может повлиять на заселенность подзон, что при опреде­ ленных условиях приведет к получению отрицательного сопротив­ ления в полупроводниковом кристалле.

 

Рассмотрим

 

зону прово­

 

димости, состоящую из двух

 

подзон, которые представле­

 

ны на диаграмме

(Е, k) так,

 

как

показано

на

фиг. 43.

*7'

Энергия одного минимума р

превышает энергию

другого

m J

минимума L на ЬЕ. При ну­

и У

левом

электрическом

иоле

 

носители

заряда

распреде­

\

ляются

между

этими

двумя

областями

зоны

проводимо­

сти. В этом случае распреде­

ление

 

будет

определяться

величиной öE, температур­

ной решетки Го и относитель­

ными

 

плотностями

состоя­

 

ний.

 

 

 

 

 

 

 

 

При -включении поля про­

Рис. 43. Две подзоны в полупроводнике.

исходит

перераспределение

 

носителей.

эффективная

Если верхнему минимуму р соответствует

большая

масса, а в нижнем минимуме L ее

величина

заметно

меньше, то

электрон, энергия которого (отсчитываемая от дна зоны проводи­ мости) будет превышать 6Е, очевидно, перейдет в минимум р, где ^его подвижность будет низкой. Таким образом, при увеличении по­ ля проводимость кристалла будет уменьшаться. Это указывает на возможность отрицательного сопротивления. Пусть в области L электроны характеризуются эффективной массой т*, подвиж­ ностью ип и концентрацией п, а плотность состояний равна Nc. Со­

ответствующие величины для верхней области

р обозначим

через

т*\ ип' и /V/. Тогда,

если о—іправодимо-сть,

aN — общая

кон­

центрация электронов, получим:

 

 

а=-е (иГіп + п'ип'),

(VI — 14)

п

TU

(VI — 15)

п'

-Лр-

. ектО

Nt.'

 

 

 

 

п п' == N,

(V I-1 6 )

100


 

Nc

 

НЕ

(VI — 17)

п

 

NekTo,

Nc'

 

 

1+

kTо

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n’ =--N

 

(VI — 18)

 

 

1+

екП

 

 

 

 

 

Для полупроводникового кристалла с площадью поперечного се­

чения 5 и длиной

I

зависимость тока от напряжения

V имеет вид

 

 

 

VoS

 

(VI — 19)

 

 

 

 

 

и

 

Sa

SV

d?

 

d l

(V I—20)

~ W

 

I

dV ’

 

 

а если -]-= E —-

напряженность поля, то

 

 

dl

 

 

 

(V I—21)

 

dV

 

 

 

 

 

 

Приращение-проводимости равно

 

 

 

---^еЬп (ипип').

(V I—22)

Полагая, что ип и ип>не зависят от поля, получим

 

 

da

,

 

dn

(V I—23)

 

~~ип )дПТ'

 

 

Выражения (VI—17) и (VI—18) определяют распределение концентрации электронов в равновесном состоянии. Чтобы вычис-

лить величину dn сделаем некоторые предположения относитель­

но распределения между минимумами р и L при значительном от­ клонении от теплового равновесия. Предположим, что

1)распределение электронов по энергиям характеризуется элек­ тронной температурой Т, которая может быть в несколько раз больше То;

2)распределение электронов между минимумами р и L описы­ вается теми же формулами, что и для теплового равновесия

(VI—17), (VI—18), заменив Т0 на Т.

Из уравнений (VI—21 и VI—23) можно определить -^ r, пред-

dn

dn

dT

 

 

 

 

ставив -пт как

-г=- ■—тгг.

 

 

 

 

da

dT

d h

 

 

 

 

Это дает

 

 

 

 

 

 

da

е (ип ип’) п

ЬЕ

1

dT

(V I—24)

 

 

 

 

 

dE ’

 

 

 

 

 

 

101