Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 165

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

104 Глава 4. Соотношения между оптическими константами

или (4.26); а(ѵ)— коэффициент поглощения; N определяется из из­ мерений эффекта Холла. Пример определения и %для электронов в германии на основании данных о поглощении свободными носи­ телями приведен иа фиг. 4.1.

Отметим, что, зная величину эффективной массы и электропро­ водности, можно найти время релаксации т свободных носителей из соотиошения

а =

Nq*

Т.

(4.30)

 

т*

 

 

§6. ПЛАЗМЕННЫЙ РЕЗОНАНС

Винфракрасной области спектра наблюдается аномальная дис­ персия коэффициента отражения R полупроводника; R стремится к единице по мере того, как частота падающего излучения при­ ближается к плазменной частоте. Плазменная частота в твердом

теле определяется выражением

С0р =

I 4nNg2

\Ѵа

(4.31)

\ m*e

j ’

 

 

где N — концентрация носителей. Поскольку плазменная частота возрастает с увеличением концентрации носителей, в легирован­ ном материале область сильного отражения начинается при более

А, мкм ------

*-

Ф и г, 4.2. Зависимость коэффициента отражения германия, легированного мышьяком, при 300 К от длины волны [6].

коротких длинах волн, чем в чистом материале. На фиг. 4.2 показаны кривые отражения, полученные при комнатной темпе­ ратуре на кристаллах германия с различной концентрацией леги­ рующей примеси (мышьяка). Экстраполируя кривые к значению і? = 1 , можно грубо оценить плазменную длину волны %р. Значе­ ния Хр при различных концентрациях носителей, показанные

§ 7. Пропускание

105

на фиг. 4.3, удовлетворяют зависимости (4.31). Отметим, что дан­ ные плазменного резонанса можно также использовать для опре­ деления эффективной массы носителей.

Ф и г . 4.3.

Зависимость длины волны плазменного резонанса (полученной

из

данных по отражению) от концентрации носителей [6].

§ 7. ПРОПУСКАНИЕ

Коэффициент пропускания есть отношение интенсивности све­ та, прошедшего через образец, к интенсивности падающего, т. е.

Я

Я

Фи г . 4.4. Потоки энергии в системе с многократным внутренним отра­ жением.

ІІІ0. Если толщина образца х, коэффициент поглощения а и ко­ эффициент отражения R, то через первую поверхность пройдет


106 Глава 4. Соотношения между оптическими константами

излучение (1 — R) І 0,

второй поверхности достигнет излучение

(1 — R) І 0 exp (—ах)

и только (1 — R) (1 — R) I 0 exp (—ах)

выйдет из образца. Излучение, отраженное внутрь образца, в кон­ це концов выйдет наружу, но значительно ослабленное. Процесс многократного внутреннего отражения проиллхострироваи на фиг. 4.4. Окончательное выражение для пропускания с учетом этих эффектов имеет вид

(1—Д)2 ехр (— ах)

(4.32)

1—Д2 ехр (—2ах)

Если ах велико, то можно пренебречь вторым членом в знамена­ теле, тогда

Т та (1 —і?)2 е~ах.

(4.33)

Если R шх известны, то из (4.32) можно найти а. Если R неизве­ стно, то можно измерить пропускание двух образцов различной толщины: хх и х2. Тогда а получается из выражения

|Л ?«ехр[а(т2 — Яі)].

(4-34)

Отметим, что поскольку

 

 

 

7\ = £ -

и

Г2 = 4 ,

 

•*0

 

-'о

 

то при использовании (4.34)

не

обязательно

знать І 0, так как

Тг/Т2 можно заменить на l j l 2.

§ 8. ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЕ ЭФФЕКТЫ

Фаза распространяющейся электромагнитной волны меняется в зависимости от координаты, согласно выражению (4.1), поэтому, если образец представляет собой плоскопараллельиую пластинку толщиной X, то при прохождении ее фаза волны изменяется на ве­

личину

Ѳ= — 2лѵл = 2тс

X

X.

с

 

Волна, отраженная внутрь, возвращается к выходной плоскости

с изменением фазы ЗѲ, затем 5Ѳ и т. д. Максимум

пропускания

будет иметь место, если

 

(2т+1)Х

(4.35)

2п

 

где пъ — целое число. Минимуму пропускания

соответствует

усііовие

 

д, - (2пг+1)Ь _

(4.36)

кѣ

 

Отметим, что ХІп — длина волны излучения внутри полупровод­ ника. Прошедшее через образец излучение промодулировано


§ 8. Интерференционные эффекты

107

фазовым фактором cos Ѳ. Пропускаңие образца будет проходить через максимум каждый раз, когда выполняется условие (4.35), т. е^при таких длинах воли, когда на длине образца укладывается нечетное число полуволн.

Следовательно, можно измерить показатель преломления п , измеряя длины волн, соответствующие двум соседним максимумам

пропускания. Тогда

1

 

п =

(4.37)

АО*

 

 

В заключение укажем, что в развитии эпитаксиальной техноло­ гии полупроводников важнейшую роль сыграло применение интерференционной техники и то обстоятельство, что сильно леги­ рованные полупроводники обладают высокой отражательной спо­ собностью в длинноволновой области спектра. Толщина слоя слабо легированного полупроводника, выращенного эпитаксиальным методом на сильно легированной подложке, может быть точно определена из интерференционной кривой, полученной при изме­ рении отражения [7]. Подложка обладает высоким коэффициентом отражения при длинах волн, больших тех, при которых наблю­ дается плазменный резонанс.

Задача 1. Электропроводность, фигурирующая в выражениях (4.19) и (4.20), описывает реакцию заряженных носителей на приложенное электри­ ческое поле.

Напишите уравнение движения электронов в вырожденном полупровод­ нике в присутствии электромагнитного излучения и выведите из этого уравне­ ния выражение для частотной зависимости электропроводности. Основываясь на этом результате и на выражении (4.9), обсудите частотную зависимость потерь. Приведите также физические аргументы, объясншощие, почему’данный результат правилен.

Задача 2. Напишите уравнения Максвелла для среды без потерь с ди­ электрической проницаемостью ,s. Покажите, что по аналогии с этими урав­ нениями в случае металлов или полупроводников реакция системы на элект­ ромагнитное излучение может быть эквивалентным образом описана при по­ мощи комплексной диэлектрической проницаемости ес без введения электро­ проводности а. Выведите выражения, связывающие ес с комплексным пока­

зателем преломления и проводимостью.

Задача 3. Рассмотрите реакцию полупроводника с прямыми переходами па электромагнитное излучение с частотой hv ^ Eg.

Обсудите, применимы ли в этом случае выражения (4.8) — (4.11), (4.19) и (4.20), и если нет, то какие изменения требуется в них ввести. Выскажите также своп соображения относительно применимости результатов задачи 1. Напишите соотношение между коэффициентом поглощения и комплексным показателем преломления для hv ^ Eg . Какая связь существует между пока­

зателем преломления и данными поглощения?

Задача 4. Выражения (4.35) и (4.36) содержат условия усиления и ослаб­ ления (в результате интерференции) света, проходящего через пленку тол­ щиной X. В первом случае интенсивность прошедшего света максимальна

в последнем — минимальна.


108 Глава 4. Соотношения между оптическими константами

Выразите отношение этих интенсивностей через коэффициент отражения, толщину X II коэффициент поглощения среды. (Это отношение называется

«контрастом».)

ЛИТЕРАТУРА 1)

' 1. Moss T.S ., Optical Properties of Semiconductors, Butterwortli, 1959, p. 48. (Имеется перевод: Мосс T., Оптические свойства полупроводников,

ИЛ, 1962).

2.Stern F., Elementary Theory of the Optical Properties of Solids, в книге:

«Solid State Physics», eds. Seitz F. and Turnbull D., Academic Press, Vol. 15,

1963, p. 299.

3. Moss T. S., Optical Properties of Solids, Butterworth, 1959, p. 22.

4.Abragam A ., Principles of Nuclear Magnetism, Clarendon., 1961, p. 93.

(Имеется перевод: Абрагам А.. Ядериый магнетизм, ИЛ, 1963.)

5.

Spitzer

W. G.,

Fan H. У., Phys. Rev., 106, 883 (1957).

6.

Pankove

J. / .,

Progr. in

Semicond., 9, 67 (1964).

7.

 

 

Properties

of Heavily Doped Germanium.

Spitzer W. G., Tannenbaum M.,

Journ. Appl. Phys., 32, 744 (1961).

8*.Тауц Я ., Оптические свойства

полупроводников, изд-во «Мир», 1967.

-1) Литература, отмеченная звездочкой, добавлена редакторами перевода.


Г Л А В А

АБСОРБЦИОННАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ

Для измерения спектра поглощения полупроводника приме­ няют монохроматор, который выделяет узкую полосу длин волн ДА источника излучения. Длина волны X соответствующая центру этой спектральной полосы, может изменяться. Следовательно, монохроматор представляет собой настраиваемый фильтр, обла­ дающий полосой пропускания АХ или Дѵ и разрешением АХ/Х —

= Aviv.

Монохроматоры и спектрометры суть идентичные приборы, название определяется только способом их применения. Если прибор находится между образцом и детектором, это спек­ трометр. Если же он помещен между источником излучения и образцом, тогда его называют монохроматором. Таким образом, спектр излучения измеряется с помощью спектрометра, тогда как при измерениях спектров пропускания или отражения, когда тре­ буется монохроматическое излучение, прибор используется в ка­ честве монохроматора. В монохроматоре (или спектрометре) нужная длина волны определяется положением выходной щели относительно диспергированного спектра. В спектрографе на месте выходной щели ставится фотографическая пластинка с широким интервалом чувствительности, на которой интенсивность света на каждой длине волны регистрируется в виде серии более или меиее непрозрачных полос или линий. Затем полученная таким образом спектрограмма сканируется световым пятном и детектор регистрирует плотность полос на спектрограмме в зависимости от длины волны (микрофотометр).

Отметим, что фотоэмульсиоииый детектор ограничивает об­ ласть применения спектрографа видимой и ультрафиолетовой частями спектра. Однако если интенсивность излучения очень велика (как, например, в случае лазера на С02), спектрограф мож­ но использовать и в инфракрасной области спектра с применением термочувствительного детектора, такого, как некоторые фосфоры, люминесценция которых гасится инфракрасным излучением.

При измерениях поглощения и отражения образец лучше всего поместить за выходной щелью прибора, чтобы избежать возбуж­ дения других процессов под действием излучения с длинами волн за пределами интересующей нас области. Например, при освеще­

110 Глава 5. Абсорбционная спектроскопия

нии образца излучением с широким спектром фотоны с большей энергией могут образовывать электроино-дырочные пары, которые, рекомбинируя, будут испускать фотоны с меньшей энергией; это может привести к ошибкам в измерении поглощения.

В зависимости от требуемого разрешения и исследуемой спек­ тральной области применяется призма или решетка, или две после­ довательные призмы, или две последовательные решетки, или ком­ бинация призмы и решетки. Область спектра, представляющая наибольший интерес, определяет выбор материала используемой призмы или угол блеска решетки.

На фиг. 5.1 показана для примера схема призменного прибора: G — источник излучения, С — образец и Т — детектор. Зеркаль­ ная оптика применяется для того, чтобы система была ахроматич­ ной. В тех случаях, когда для собирания и фокусировки света

Ф и г . 5.1. Схема спектрометра типа «Перкин — Эльмер».

используются линзы, следует быть очень осторожным и работать с ними только в ахроматической области, иначе светосила системы сильно уменьшается. Для-уменьшения аберраций часто исполь­ зуются внеосевые параболические зеркала. В приборе, изображен­ ном на фиг. 5.1, излучение дважды проходит через призму. Длина волны излучения, проходящего через выходную щель S 2, опреде­ ляется углом поворота зеркала Литтрова М 4. В данном приборе можно пользоваться легко сменяемыми призмами из различных

.материалов, при этом область применения прибора простирается от 2000 А до 50 мкм. Области пропускания различных материалов показаны на фиг. 5.2. Помимо области пропускания, важной харак­ теристикой призм является показатель преломления (фиг. 5.3). В более удобной форме эти данные представлены на фиг. 5.4, где показана зависимость дисперсии dnldX от X. Кварц является наиболее подходящим материалом для ближней ультрафиолетовой

области. Тяжелое стекло (флинт)

дает

наилучшую

дисперсию

в видимой области и в области до 2

мкм;

используя

LiF, можно