Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 207

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

254 Глава 10. Полупроводниковые лазеры

изменения коэффициента отражения граней резонатора Фабри — Перо можно оптимизировать характеристики лазера.

Другая рабочая характеристика полупроводникового лазе­ ра — это его способность работать в непрерывном режиме. Здесь ограничения обусловлены ростом температуры активной области во время работы. Рост температуры определяется величиной рас­ сеянной внутри прибора мощности Р d и тепловым сопротивлением

Ф и г . 10.12. Зависимость мощности вынужденного излучения па единицу ширины лазерного диода от коэффициента отражения при различных значе­ ниях длины резонатора (работа в импульсном режиме) [18].

Использовались следующие экспериментальные данные для лазеров из GaAs пші 77 К- а = 15 см-1, (3 = 2,5-10-= см/А, 3 ' = 1 , 5 В .

прибора. Типичное значение теплового сопротивления Q около 30 Вт оно может быть определено по энергетическому сдвигу

полосы излучения с температурой. Прирост температуры лазера записывается в виде

ДГ = Q [/У, (1 — ЛвхД-г-Рг],

(10.10)

тогда как пороговый, ток дается выражением

т т

Т + АТ

_

(10.11)

I — І 0exp —^ — .

Решение системы уравнений (10.10) и (10.11) дает область токов

и температур, при которых возможен непрерывный режим работы [г9] *).

Еще одним фактором, определяющим работу прибора, является легирование полупроводника. Так, если стремиться к максималь­ ной внешней квантовой эффективности, необходимо контролиро­ вать концентрацию доноров и акцепторов. В то время как кон-

х) При решении этой задачи в работе [19] вместо формулы (10.11) исполь- зовалась аппроксимация / = /„ [! - ) - Г/0)]3.

§ 5. Оптимальная конструкция инжещионного лазера

255

цеитрация акцепторов не является критической при значениях, меньших 2 -ІО19 см-3 (фиг. 10.13), для концентрации доноров,

•О.

з

---- ГТ"

 

1

— ГТ-

1

— г

 

Ч

• •

4

 

§

^

 

 

 

 

77

к

 

 

С5

 

 

 

 

 

S

 

 

 

 

 

 

 

I

1

 

 

 

 

 

 

 

|

0 ,8

 

 

 

 

 

 

 

|°,5

 

 

 

 

 

 

 

S' 0-4

 

 

 

 

о о

О

 

*°,3

 

 

 

б

 

 

а: о,2

 

 

 

 

О

 

 

 

 

 

 

 

з

 

 

 

 

 

 

о

 

О)

 

 

 

 

 

 

 

*5 °>'

__ 1__L_

1

—I 1 . ___1_

1 1

1

 

ІО"

2

5

ІО1*

2

ю™

 

5 юг<>

Концент рация акцепторов, см.-3

Ф и г. 10.13. Внешняя квантовая эффективность спонтанного излучения диодов из GaAs при 77 и 300 К в зависимости от концентрации акцепторов в верхнем эпитаксиальном слое p-типа проводимости [20].

Концентрация доноров в лежащем ниже эпитаксиальном слое: 5 • ІО17 см-3.

Фи г . 10.14. Внешняя квантовая эффективность спонтанного излучения диодов из GaAs при 77 и 300 К в зависимости от концентрации доноров в верхнем эпитаксиальном слое п-типа проводимости [20].

Концентрация акцепторов в лежащем ниже эпитаксиальном слое: і-Ю 1® см-3.

по-видимому, требуется оптимальная величина в интервале от 1 до 2 -ІО18 см-3 (фиг. 10.14) [20]. Предполагается, что уменьшение


256

Глава 10. Полупроводниковые лазеры

внешней квантовой эффективности при концентрации доноров, большей чем 2 -ІО18 см“3, обусловлено образованием преципитатов селена н теллура [21].

Ф и г . 10.15. Зависимость полуширины линии спонтанного излучения и энер­ гии излучаемых фотонов от уровня легирования примесям п- и р-типа

проводимости [22].

\

Из фиг. 10.15 видно, что от уровня легирования зависит шири­ на спонтанной полосы и энергетическое положение ее максимума; кроме того, легирование влияет на волноводные свойства актив­ ной области.

§ 6. ВЛИЯНИЕ МАГНИТНОГО ПОЛЯ

Магнитное поле вызывает расщепление разрешенных энерге­ тических зон на подзоны Ландау. Расщепление Ландау приводит к конденсации разрешенных состояний зоны внутри узких полос, как показано на фиг. 10.16 для случая InSb, где излучательная рекомбинация обусловлена, по-видимому, переходами «зона — зона». В результате этого ширина спонтанной полосы излучения уменьшается, что может приводить к значительному снижению

§ 6. Влияние магнитного поля

257

порога генерации (фиг. 10.17,а). Так как магнитное поле смещает квантованные состояния в глубину разрешенной зоны, максимум (или максимумы) спектра излу­ чения смещается с увеличением магнитного поля в область боль­ ших энергий (фиг. 10.17,6).

Однако в InAs влияние маг­ нитного поля оказывается ощу-

Ф и г. 10.16. Влияние сильного ма­ гнитного поля на распределение раз­ решенных состояний в InSb (рас­ щепление Ландау).

Л и Б — две серии радиационных пере­ ходов. QFLE — квазиуровень Ферми для электронов; QFL1I — квазнуровень Ферми для дырок.

тимым только в том случае, когда это поле направлено перпендику­ лярно току. Как видно из фиг. 10.18, поперечное магнитное поле

Ф и г. 10.17. а — влияние продольного магнитного поля на порог генера­ ции в диодах пз InSb; б — энергетическое положение максимумов спонтан­

ного и когерентного излучения в зависимости от магнитного поля [23].

А и Б — две линии когерентного излучения, В — спонтанное излучение.

приводит к уменьшению порогового тока. Такое поведение объ­ ясняется уменьшением толщины d активного слоя [см. формулу (9.13)]; уменьшение обусловлено закручиванием носителей тока

17-01085


258

Глава 10. Полупроводниковые лазеры.

Ф п г. 10.18. Изменение порогового тока с ростом магнитного поля в, лазе­ рах из InAs при 2 К [24].

в плоскости, перпендикулярной полю, что приводит к ограничению области диффузии инжектированных носителей и удержанию их вблизи р — гс-перехода.

§ 7. ВЛИЯНИЕ ДАВЛЕНИЯ

Гидростатическое давление вызывает изменение ширины за­ прещенной зоны полупроводника и соответствующее изменение спектра излучения. В GaAs ширина запрещенной зоны растет с давлением со скоростью 1,1 *10—5 эВ/бар, тогда как скорости изменения длины резонатора и показателя преломления равны

соответственно

(dlldP)H= — 0,44-10-« бар"1

и

[d(ln?г/йР)]77к = 2,4• 10 6 бар 1 [25].

В пределах указанных ограничений рост и ослабление опреде­ ленных мод лазерного излучения определяются как зависимостью спектра излучения от давления, так и разрешенными модами резо­ натора, также зависящими от давления.

В халькогенидах свинца, однако, гидростатическое давление вызывает сужение ширины запрещенной зоны. Исследования инжекционных лазеров на PbSe показывают, что основная мода излучения смещается в область меньших энергий с увеличением давления со скоростью —8 ,5 -10_0 эВ/бар (фиг. 10.19) [26].

Одноосное сжатие, которое легче осуществить, чем гидростати­ ческое, может вызывать уменьшение пороговой плотности тока [27], однако величина смещения спектра излучения может расти, уменьшаться или проходить через максимум с ростом давления (фиг. 10.20) [28].


- 7,5

---- 1----

---- 1----

---- 1

____ I

i

0

2000

4000

6000

8000

 

Давление, бар

 

 

Ф и г. 10.19. Изменение

энергии

основной моды излучения с давлением

в лазерных диодах из PbSe при

77 К [26].

 

 

Ф и г. 10.20. Величина смещения максимума спонтанного излучения при одноосном сжатии для трех различных диодов [28].

1 7 *

260

Глава 10. Полупроводниковые лазеры

Задача 1. Покажите, что в резонаторе Фабрп — Перо длиной L рас­

стояние между модами описывается выражением

2L !'«(£■) +

I

Задача^ 2. При анализе температурной зависпмостп пороговой плотности тока / Xh ооычно предполагается, что а в формуле (9.15) представляет собой

главным ооразом потери на свободных носителях в активной области. Являет­ ся ли это предположение достаточно ооосиоваииым? Начертите диаграмму лазерного диода, показывающую распределение поля пзлучешш в активной

ппассивной областях, и обсудите ваш ответ с учетом проникновения поля

впассивные ооластп. Используйте пдею, выраженную в формуле (6.21).

 

 

 

 

 

 

 

ЛИТЕРАТУРА

 

 

1.

Nathan М. /., Fowler А. В ., Burns G., Phys. Rev. Lett., 11, 152 (1963)

2.

Lajf R. A ., Diunke W. P., Dill F. II., /г ., Burns G.,

IBM, Journ. Res.

3.

and Devel., 7, 63 (1963).

 

 

 

 

?

Ashkin A ., Gershenzon M ., Journ. Appl. Phys., 34, 2116 (1963)

4.

Kressel II., Nelson II., RCA Review, 30, 106 (1969);

 

5.

Kressel H., Nelson II., Hawrylo F. Z.,

Journ. Appl. Phys., 41, 2019 (1970)

Alferov Zh. I., Bull. Am. Phys. Soc., 14, 875 (1969).

3204 (1963).

6.

Fenner

G. E., Kingsley J.

D., Journ.

Appl.

Phys., 34,

7.

Panish M. B .4 Ilayashi

Sumski 5.,

IEEE

Journ. Quantum Electronics,

 

o,

210

 

(1969);

 

 

 

 

IEEE

Journ. Quantum Electronics,

 

Hayashi

I ., Panish M. B., Foy P.,

8.

o,

211

 

(1969).

 

 

 

Journ. Appl. Phys.,

37, 2596 (19661.

Abrahams M. S., Pankove

J. I.,

9.

Deutsch C., Phys. Lett., 24A,

 

467

(1964).

2746 (19631

10.

Engeier W. E., Garfinkel M., Journ.

Appl.

Phys., 34,

11.

Stern F., Phys. Rev., 148, 186 (1966).

 

 

12.

Pankove J. I., IEEE J. Quantum Electronics, 4, 119 (1968).

13.

Басов I I . Г., Грасюк A . 3., Ефимков В . Ф., Зубарев I I . Г., К атулии В . А.,

 

Попов ІО. М ., Journ. Phys. Soc. (Japan),

21, Suppl. 277 (1966).

1-i. Kressel H., Mierop

H., Journ. Appl. Phys.,

38, 5419 (1967).

 

5 7 Г

в

^

31^(1969)

^

^Г0С'

 

57, 25 (1969). [См. перевод; ТИИЭР,

16.

Cheroff

G., Stern F.,

Triebwasser

S.,

Appl. Phys. Lett., 2, 173 (1963).

17.

Biard J.

R., Carr

W.

N.,

Reed

B. S., Trans. AIME, 230, 286 (1964).

18.Pilkuhn M. H., Guettler G. T., IEEE Journ. Quantum Electronics, 4, 132

(1968).

19.Gooch C. 7f.,.IEEE, Journ. Quantum Electronics, 4, 140 (1968).

20.Nuese C. J ., Tietjen J. J., Gannon J. J., Gossenberger II. F., Trans MS

AIME, 242, 400 (1968).

'21.

Vieland / .,

Kudman I.,

Journ. Phys. Chem. Solids,

24, 437

(1963).

'22.

Braunstein

R., Pankove

J. I., Nelson H., Appl. Phys.

Lett., 3,

31 (1963).

23.Phelan R. J., Calawa A . R., Rediker R. II., Keyes R. J., Lax B. Annl

Phys. Lett., 3, 143 (1963).

24.Galeener F. L., Melngailis I., Wright G. B., Rediker R. II., Journ. Annl

 

Phys., 36, 1574 (1965).

11

25.

Feinleib J., Groves S., Paul W., Zallen R., Phys. Rev., 131, 2070 (1963)-

26.

Fenner G. E., Journ. Appl. Phys., 34, 2955 (1963).

 

Besson J, M ., Butler J. E., Calawa A. R., Paul W., Rediker R. II. Annl

 

Phys. Lett., 7, 206 (1965).

11

27.

Ryan G. M ., Miller R. C., Appl. Phys. Lett., 3, 162 (1963).

28.

Meyerhofer D., Braunstein R ., Appl. Phys. Lett., 3,

171 (1963).


fo

Г Л А В А 11

ВОЗБУЖДЕНИЕ ЛЮМИНЕСЦЕНЦ ИИ И ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ

Для возбуждения люминесценции в полупроводниках необ­ ходима генерация высокой концентрации электронно-дырочных пар. Это может осуществляться электрически, путем оптического возбуждения и электронным пучком.

§ 1. ЭЛЕКТРОЛЮМИНЕСЦЕНЦИЯ

Электрическое возбуждение является наиболее прямым мето­ дом возбуждения, поскольку при электролюминесценции осуще­ ствляется непосредственное преобразование электрической энер­ гии в энергию светового излучения. Кроме того, этот вид возбуж­ дения позволяет легко осуществлять модуляцию.

1. р — гг-Переход с положительным смещением

Положительное смещение позволяет обеспечить очень высо­ кую плотность электронно-дырочных пар вблизи р — и-перехода. Ток растет экспоненциально с напряжением, приложенным к р — п-переходу. Если внутреннее сопротивление диода незна­ чительно, то большая часть приложенного напряжения падает на переходе. В полупроводниковых лазерах обе области р- и тг-типа проводимости сильно легируются и таким образом внутреннее сопротивление сводится к минимуму.

В иижекциоппых лазерах на основе GaAs обычно достигается высокая эффективность электронной инжекции в p -область. Это обусловлено двумя факторами: 1) различием в положениях уров­ ней Ферми в двух зонах и 2) разницей в величине эффективного сужения ширины запрещенной зоны. Как будет показано ниже, оба этих фактора приводят к возникновению барьера для дырок.

На фиг. 11.1 изображена идеализированная диаграмма р п- перехода, смещенного в пропускном направлении напряжением Vj = (Eg + £p)/g, как раз достаточным для начала инжекции электронов в область р-тыиа проводимости. При одинаковом леги­ ровании уровень Ферми в п-области заходит глубже в зону прово­ димости (малая эффективная масса), чем уровень Ферми в глубину

262 Глава 11. Возбуждение люминесценции и лазерного излучения

валентной зоны в p-области (большая эффективная масса). В та­ ком случае £п > \ ѵ. При очень низкой температуре и при таком

Ф и г . 11.1. Ишкекцнонная люминесценция в р — n-нереходе при величине прямого смещения Vj.

Ф и г . 11.2. Смещенный в прямом иаправлеиии р — «-переход, в котором

вызванное легированием эффективное сужение ширины запрещенной зоны в p-области больше, чем в «-области.

значении приложенного смещения Vj, что кает поток электронов в область p-типа, блокированы барьером, равным — \ ѵ.

gVj = Е е -f- £р, возни­ в то время как дырки