Файл: Кремниевые планарные транзисторы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 223

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Рис. 3.6. Зависимость коэффи­ циента усиления Вст от тока коллектора при трех коллек­ торных напряжениях для тран­ зистора КТ312 (а) и КТ603 (б):

Д — UK6 =

15

В, X — UK6 = 5,5 В,

О — U=

2,7

В.

В случае

переключающих

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

транзисторов,

например

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

КТ603,

 

в

которых

на

за­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ключительной

стадии

 

из­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

готовления

 

проводится

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

диффузия

золота,

время

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

жизни

электронов

в

базе

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мало (тп А ; Ю - 8 с), и ко­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

эффициент

переноса

 

ß n

Для

таких

приборов можно

считать,

заметно

отличается

от

1.

что

уп

 

1, и тогда приходим к формуле (3.426).

 

 

 

 

 

При

сравнении

выражений (3.60) и (3.426) легко заметить, что

для транзисторов 1-го

 

класса

(ß„

=

1, уп

<

1) коэффициент уси­

ления

ß C T

не

зависит

от

коллекторного

напряжения

U K P . N ,

а

у транзисторов 2-го класса

(ß„ <

1, уп

=

1) величина ВСТ

обратно

пропорциональна толщине квазинейтральной базы We,

которая

зависит от напряжения

U K P

. N

по закону (3.40). Поэтому,

измеряя

зависимость ВСТ

=

BCT(UK6)

J /

в

диапазоне

напряжений

U

=

=

(—2

~

—15)

В

(когда

[ £ / к б |

<

V 3

£ / к б п р )

при

токе

/ к ,

соот­

ветствующем

средней

 

части пологого участка на кривой ВСГ

— Вст([к)

 

\ у

, где

 

рекомбинация

в

эмиттерном

р-п

переходе

пренебрежима по сравнению с рекомбинацией в квазинейтральной базе и эмиттерном слое, можно установить принадлежность транзи­

стора конкретного типа к тому

или иному классу. Если ВСГ

почти

не зависит от напряжения

UM

(т. е. практически

[ ß C T (

15В) —

— 5 С Т (

— 2B)]/ßC T ( — 2В) <

0,1);

тогда

 

можно

 

считать,

что

ß„ =

1 и ВСТ

=

1/(1 — у п ) . Случай

ß„

=

1,

уп

<

1 реализуется,

например у транзисторов КТ312, как показано на рис. 3.6,

а.

 

Если в указанном диапазоне напряжений £/„б

 

коэффициент

усиления ß C T

возрастает:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

[ 5 С Т ( —

15В) — Л с т ( — 2 ß)]/5 C T ( — 2 В)

» 0,20

0,30,

 

тогда

можно

считать уп

=

1 и В с т

=

1/(1

— ß„). Действительно,

согласно

(3.40)

и (3.426)

при

типичных

значениях

W6o

=

0,70 —

— 1,50

мкм, Na(x30)/NdK

 

=

103,

NdK

=

(0,5

ч-

1) • Ю1 5

см~3

получаем

[ ß C T ( — 15В) — ВСГ

( — 2B)]/ß C T ( — 2В) =

0,25

0,30.

Такая

зависимость величины

ВЙ7

от

UK6

 

характерна для

тран­

зисторов

КТ603 (рис. 3.6,

б),

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4 Зак. !90

97


Глава четвертая

О С О Б Е Н Н О С Т И РАБОТЫ Т Р А Н З И С Т О Р О В ПРИ БОЛЬШИХ Т О К А Х К О Л Л Е К Т О Р А

4.1. Э ф ф е к т оттеснения эмиттерного тока

 

Транзисторы средней и большой мощности обычно

работают

в схемах в режиме высоких плотностей эмиттерного тока / э

= 100 —

— 3000 А/см2 . При больших величинах / э возникает ряд физиче­ ских явлений, вызывающих спад коэффициента усиления ß C T .

Вначале рассмотрим эффект оттеснения эмиттерного тока, который заключается в появлении неоднородного распределения плотности эмиттерного тока по ширине эмиттера. Сущность этого эффекта легко понять из рис. 4.1, где изображено сечение планарного транзистора с прямоугольным эмиттером. Падение напряжения

на эмиттерном р-п переходе в центре эмиттера Ua Р.п)\у

всегда

меньше напряжения на переходе у края эмиттера ÙB р.п

( ± / э / 2 )

на величину омического падения напряжения на участке активной базы 0 < у < IJ2 вследствие протекания базового тока. Плотность ;же тока эмиттера экспоненциально зависит от напряжения на р-п

переходе

/ э — exp (£/3 P -n /cpT ) согласно

формуле (3.23). Поэтому

падение

напряжения на тонкой активной

базе в несколько

срг =-

= 0,026 В приведет к различию в величинах /э (0) и ja(lJ2)

на по­

рядок и более. Максимальная плотность тока будет на краю пере­ хода. Увеличение эмиттерного тока вызывает увеличение плотности эмиттерного тока / э (/ э /2), а также базового тока І б а , что приводит к возрастанию падения напряжения вдоль базы и к неоднородности в распределении тока по площади эмиттера. Поэтому в мощных транзисторах целесообразно использовать узкие эмиттеры с большим периметром.

Рассчитаем распределение плотности эмиттерного тока для двух основных конфигураций эмиттера — круговой и прямоуголь­ ной. Это даст возможность выразить полный ток эмиттера I э через плотность тока у края эмиттера, что необходимо для конструктив­ ного расчета транзисторов.

Прямоугольный эмиттер. Флетчер [59] впервые рассмотрел иде­ ализированный случай транзистора с однородно легированной ба­ зой (бездрейфовый транзистор) и с прямоугольным эмиттером беско­ нечной ширины. Хаузер [60] рассчитал эффект эмиттерного вытес­ нения для более реалистической модели транзистора также с одно­ родно легированной базой, прямоугольным эмиттером конечной

98


ширины и с базовыми контактными полосками, расположенными как с одной, так с обеих сторон от эмиттера ( рис. 4.1).

Обобщим результаты работы [60] на случай дрейфового тран­ зистора с неоднородно легированной базой с двумя базовыми кон­ тактными полосками, что обычно имеет место на практике.

Сделаем ряд допущений:

1) эмиттерный и коллекторный р-п переходы считаем плоскими

ипараллельными, что справедливо в пределах активной базы;

2)падением напряжения в эмиттер ном слое ввиду высокого ле­ гирования пренебрегаем;

3) уровень

инжекции в базе считаем малым [п(х,

y)lNа(х)

—•

— Л^гі(лг)) < 1],

так что удельное сопротивление базы не зависит

от

тока при умеренных токах эмиттера;

 

 

4) коэффициент передачи тока а предполагается

постоянным

вдоль базовой области, что хорошо выполняется в диапазоне не очень высоких плотностей тока эмиттера (допущение 3);

5) длину эмиттера Z3

считаем значительно большей ширины

/ э ,

т. е. ZJl9

%> 1. Поэтому

краевые эффекты

можно не учитывать

и

рассматривать двумерную модель

транзистора.

 

 

Ввиду симметрии задачи относительно оси Ох достаточно рас­

смотреть область активной базы 0 ^

у <J IJ2.

Напряжение на эмит-

терном р-п

переходе Uop.n(y)

в

произвольной точке у,

очевидно,

связано с напряжением на переходе у края эмиттера

Uap.n(lj2)

следующим

соотношением:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

У 2

 

 

 

U3p.n(y)^U3p.n(lJ2)~

 

 

J

/ б ( х , y')pu(x)dy',

(4.1а)

 

 

 

 

у

 

 

 

 

где интеграл в правой части представляет собой омическое падение напряжения на участке базы {у, IJ2), /б (х, у) — абсолютная вели­ чина плотности базового тока в точке (х, у).

Величина / б (х, у) рб (х, y)dy = f{y)dy — омическое падение на­ пряжения на участке dy, не зависит от координаты х, так как при малых уровнях инжекции в базе (допущение 3) ток базы можно счи-

Рис.

4.1.

Картина

токов в

/7Т 1 X

п-р-п

транзисторе

с прямо­

угольным

эмиттером.

 

4*

 

 

 

99

 

 

 

 



Тать чисто дрейфовым вдоль оси Öy, а падением напряжений по толшине базы (вдоль оси Ох) можно пренебречь. Последнее допущение оправдано еще и тем, что толщина базы W6 всегда значительно мень­

ше полуширины эмиттера (W61(1

J2)

^

 

0,1).

 

 

 

 

Плотность

базового тока

/б (х,

у)

выразим через

базовый ток

в сечении у

 

І^(у)-

Очевидно, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(У) = j /о (*. У) Zo

dx =

(X,

У) PG (х) jZ3

dx

 

поскольку

 

уб

(х,

у)

р б

(х) = f (у).

Следовательно,

/ б

(х, у) р б (х)

I

/,,\

7-1

зд. г Д е

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

г- Г

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

• 1

 

 

 

 

 

Г

dx

 

— 1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/< Рб (Л)

j

?|Ар(х)[УѴа

 

 

 

 

 

 

 

_ э

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

— поперечное

сопротивление

активной

базы [см. формулу

(3.24)].

Подставляя последнее выражение в (4.1а), получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

У 2

 

 

 

 

 

 

 

иэрп(у)

= и э р . п [ ^ -

 

j

I6(y')Z^Rsady'.

 

(4.16)

 

С другой

стороны,

базовый

ток

Іб(у)

в сечении у выражается

через плотность эмиттерного тока

 

j3(y):

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

У 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ о О / W o

( у ) -

J

 

/ 3

( ï / ' ) ( l - a ) Z a J î / ' ,

 

(4.2)

где интеграл учитывает потери дырок на рекомбинацию с электро­

нами и на инжекцию в эмиттер на участке базы от у до

IJ2.

 

 

Плотность эмиттерного тока j3(y)

на основании формул

(3.12а)

и (3.56)

равна

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

h (У) =

 

I Іп Ш + \ } Р

(У)

I =

/эо ехр (U3

р.п

(j/)/q>T),

(4.3)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(4.4)

 

 

 

 

 

 

 

 

Ng(x)~Nd(x)

 

dx

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Dn

 

(X)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ибо

всегда

 

| / „ | > | / p |

(см. §

3.4).

 

 

 

 

 

 

 

 

Теперь

продифференцируем (4.2) по у:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dla

(y)/dy =

/ э

(t/) ( 1 — а ) Z a .

 

 

(4.5)

100