Файл: Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 15.10.2024

Просмотров: 176

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

316

Глава 8

В более поздней работе [496] такая интерпретация была отвергну­ та, так как измерения на более толстых пленках, полученных испарением, показали, что структура отсутствовала как в указан­ ной области энергий, так и вблизи 0,9 эВ. Однако в той же статье Тауц говорит о существовании полосы поглощения при 0,23 эВ в аморфном германии, полученном распылением и электролитиче­ ским осаждением. Результаты показаны на фиг. 8.20. В спектрах пропускания, особенно в случае наиболее оптически совершенных

г*ю3 I

' 5 1'103

и

 

V

J

 

 

 

 

0,0

0,1

аг

о,з

0,4

as

о,в

 

 

 

flui,

эВ

 

 

Ф и г . 8.21. Инфракрасный спектр поглощения аморфного германия, полу­ ченного осаждением в тлеющем разряде [89].

Толщина пленки 4,1 ыкм.

пленок, полученных испарением, наблюдаются интерференцион­ ные полосы. Полоса при 0,23 эВ интерпретируется Тауцем и др. [496] как результат переходов из валентной зоны на уровень дефекта в запрещенной зоне (в кристаллическом германии радиа­ ционное нарушение создает акцепторный уровень с глубиной залегания 0,24 эВ выше потолка валентной зоны). Другую силь­ ную полосу поглощения, которую можно наблюдать вблизи 0,07 эВ (фиг. 8.20), Тауц приписывает дефектам, представляющим собой кислородсодержащий комплекс. Полосы поглощения с почти той же самой энергией наблюдались Читтиком [89] на пленках, полученных при осаждении в тлеющем разряде. Его результаты показаны на фиг. 8.21. Ко времени написания данной книги еще не было ясно, почему такое сильное поглощение не обнаруживает­ ся на пленках Спайсера и др., полученных испарением. Не ясно


Свойства аморфных полупроводников с тетраэдрической структурой 317

также, почему Тауцу и сотр., а также другим исследователям ие удалось на некоторых своих пленках видеть резкий край погло­ щения.

Представляют интерес некоторые предварительные измерения спектров электроотражения, выполненные Пиллером и др. [413]. При измерениях обычного оптического пропускания и отражения для повышения чувствительности и разрешающей способности ис­ пользуется электромодуляционная техника [78]. К образцу перио­ дически прикладывается электрическое поле и осуществляется

0°о°ООо о °Е,

4,4

 

7 7 7 7

^ 7 7

7

7

4,3

 

 

 

 

 

2,4

 

 

 

 

 

 

I

' 7 7 7

7 7 7

7

7 £ j +uj

2,3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

_CPQO oo° о

Е0+Ь0

I

0,8

a:

 

a

poooo p

4*

oooo1

2,2

О

0.1

 

 

 

7 7 7 7 7 7 7

7

7

Ej

IIIII

 

2,1

 

 

 

 

 

WO ZOO 300 400

 

500

100 ZOO 300 400 500

Г,'С

 

 

 

 

T, °C

Ф п r . 8.22. Спектральное

 

расположение

сигналов

электроотражения

в аморфном германии в зависимости от температуры

осаждения.

Справа расщепление сигнала счет спин-орбитального взаимодействия на краю зоны (Во, Е„ + Д)- Черточки указывают на очень слабо выраженную структуру [413] .

синхронное детектирование вызываемых этим полем изменений оптических свойств. Такая модуляционная техника позволяет легко разрешить при комнатной температуре спин-орбитальное расщепление края валентной зоны кристаллического германия. Это расщепление (на фиг. 7.35 не показано) составляет величину

порядка 0,35 эВ и приводит к первому

прямому

переходу

типа

Г 2 5 ' — Г2 ', который наблюдается в виде

дублета.

На фиг.

8.22

иллюстрируется положение сигналов электроотражения в разных пленках германия, осажденных на подложки, находившиеся при температурах от 100 до 500 °С. В соответствии с картинами дифрак­ ции электронов, полученными на разных пленках, Пиллер и др:

утверждают,

что при

температуре выше

200 °С

пленки

имеют

поликристаллическую

структуру. Хотя величина

сигналов элек­

троотражения

уменьшается с понижением

температуры

осажде-


318 Глава S

пия от 500 до 200° С, они остаются резкими и указывают иа слабое уменьшение энергии, при которой наблюдается максимум (0,75 эВ), связанный с самой верхней валентной зоной. При температурах осаждения ниже 200° С наблюдаются дифракционные картины, характерные для аморфной фазы, что сопровождается резким уменьшением энергии, соответствующей этому максимуму, па величину 0,1—0,2 эВ. Хотя сигналы слабые и имеется значитель­ ная неопределенность в экспериментальных данных, мы должны считать, что описанные выше эксперименты представляют реаль­ ное доказательство уменьшения ширины оптической запрещенной зоны при переходе от кристаллического к аморфному германию. Наблюдалось, что сигнал прн энергии 1,1 эВ, связанный с пере­ ходами из более глубоко лежащей валентной зоны, непрерывно перемещается в сторону меньших энергий, проходя при этом через температуру фазового перехода. По Пиллеру и др. этот факт свидетельствует о том, что электронная зонная структура на глубине нескольких десятых электронвольта ниже края валент­ ной зоны подвержена меньшим изменениям, вызываемым потерей дальнего порядка.

Поглощение, связанное с межзонными переходами выше края фундаментального поглощения, обсуждалось в 7.6.3, а график зависимости е2 от Йсо для кристаллического и аморфного герма­ ния приведен на фиг. 7.34. Показанный спектр для аморфной пленки был получен Тауцем и др. [495] с помощью анализа данных по отражению по Крамерсу — Кронигу. Аналогичные спектры были получены в работах [46, 137, 494].

Интерпретация спектра, показанного иа фиг. 7.34, имеет суще­ ственное значение для полного понимания электронных свойств аморфных полупроводников. Важный вопрос состоит в том, может ли спектр быть рассчитан по известной электронной зонной струк­ туре кристаллического германия, или необходимо привлекать другое приближение, подобное тому, которое вводилось Филлппсом [412] и упоминалось в 7.6.3.

Как показано на фиг. 7.36, расчет, основанный на плотности состояний для кристалла, но предполагающий нарушение правила отбора по квазиимпульсу к (разрешаются непрямые переходы), приводит к сглаженному спектру е2 с максимумом при 4,5 эВ; при этом экспериментальная кривая имеет максимум при 2,65 эВ. Замечая, что плотность аморфного германия, вообще говоря, меньше плотности кристалла, Герман и Ван Дайк [240] предполо­ жили, что расширенная решетка германия может явиться лучшим исходным приближением; используя рассчитанную зонную струк­ туру Для германия с постоянной решетки, увеличенной иа 1 1 % (фиг. 8.23), они пересчитали спектр е2 . Результат показан иа фиг. 8.24: максимум е2 имеет место при энергии 3,1 эВ, что значи­ тельно ближе к экспериментальному результату. Однако этот


L

Л

Г

Л

X

К

Е

Г 0,0

0,5

1,0

 

Приведенный

волновой

вектор

Плотность состояний N(E)

Ф и г. 8.23. Рассчитанная энергетическая зонная структура расширенного германия (а/а0 = 1,11) и плотность состояний расширенного (сплошная кри­ вая) и обычного (пунктирная кривая) германия [240].

50

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

6

-

 

 

 

 

 

 

 

зо

 

 

 

 

 

 

 

го

 

!

1

 

 

 

 

 

'

1

 

 

 

 

ю V. T - Ji1

'I1 \x r

\

««.

7 1

г з

1

5

1 1

7

4

 

 

6

Энергия фотона,

зВ

 

 

 

 

 

 

Ф и г . 8.24. а — сравнение экспериментальной кривой для е 2 аморфного гермапия (сплошная кривая), полученной Тауцем, и теоретической кривой (пунктирная кривая), построенной на основе зонной структуры фпг. 8.23

вмодели непрямых переходов и постоянных матричных элементов.

б— сравнение теоретических кривых для е2 , полученных на основе рас­ ширенного германия (сплошная кривая) и нормального (пунктирная кри­ вая) в модели прямых переходов; матричные элементы рассчитаны с помощью

псевдопотенциала [240].