Файл: Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 15.10.2024
Просмотров: 169
Скачиваний: 0
Свойства аморфных полупроводников с тетраэдрической структурой 327
б) поведение проводимости, |
которое |
удовлетворяет соотноше |
|
нию а — С ехр (—ElkT) |
при |
С ~ 103 |
О м _ 1 - с м _ 1 и предполагает |
механизм проводимости по нелокализованным состояниям в обла
сти скачка |
подвижности; |
|
в) |
излом |
на кривой проводимости при температуре вблизи |
250 К, |
ниже которой имеет место проводимость преимущественно |
о |
г |
4 |
е |
в |
г |
4 |
б |
a |
|
|
|
|
ю3/т, /г' |
|
|
|
|
Ф и г. 8.31. |
Температурная |
зависимость |
электропроводности |
и |
термо-э.д.с. |
|||
в вырожденных кристаллах |
I n S b я - и р-типа и аморфных пленках |
I n S b [483]. |
по локализованным состояниям вблизи края зоны проводимости; изменение наклона составляет около 0,12 эВ, а точка пересечения с осью ординат лежит при ст~ 1 — 10 О м - 1 - с м - 1 , т. е. при тех значениях,; для которых и ожидается такой механизм проводи мости;
г) максимум абсолютной величины термо-э.д.с. при темпера туре порядка 140 К, указывающий на возможность изменения зна ка при более низких температурах (как наблюдалось для аморф ного германия при переходе к перескоковому механизму прово димости, имеющему место на уровне Ферми).
Температурная] |
зависимость |
магнетосопротивления InSb |
при |
25 кГс, измеренная |
Меллом и |
Штуке [348], была показана |
на |
•фиг. 7.23. Эти результаты, а также данные более поздних изме рений, выполненных Меллом (частное сообщение) на I n P и InAs, дающие положительное магнетосопротивление, в настоящее время непонятны.
328 |
Глава 8 |
Фиг. 8.32 и 8.33 иллюстрируют спектры оптического поглоще ния InSb, GaAs и GaSb при комнатной температуре. Спектры е2 имеют такой же вид, что и для аморфных Ge и Si (фиг. 8.24 и 8.30).
о г 4 в 8 ю по г ч в в ю по г « в s /о iz
Энергия, эВ |
Энергия, эВ |
Энергия, зЬ |
Ф п г. 8.32. Спектры е 2 |
в аморфных (сплошные кривые) и кристаллических |
|
(пунктирные кривые) пленках I n S b , |
G a S b и G a A s [560]. |
Энергия, эВ
Ф и г. 8.33. Края оптического поглощения, в аморфных (сплошные кривые) и кристаллических (пунктирные кривые) пленках I n S b , G a S b и G a A s [146]..
i
Без детального знания электронной зонной структуры для кри сталлической фазы этих материалов сейчас невозможно сказать,, насколько максимум е2 , лишенный каких-либо характерных особенностей, может быть объяснен нарушением правила отбора
Свойства аморфных полупроводников с тетраэдрической структурой 329
по квазиимпульсу (песохраиением к). Как предполагал Филлипс [412], максимум е2 можно в основном определить силой связи между ближайшими соседями. Среди различных форм края опти ческого поглощения (фиг. 8.33) имеется также случай резкого порога поглощения (InSb); необычной особенностью здесь являет
ся то, что этот порог расположен при больших энергиях, |
чем |
||
в кристалле. Эти результаты не были детально |
проанализированы |
||
из-за непостоянства положения порога, |
его |
крутизны и т. |
п. |
в зависимости от условий приготовления |
образцов. |
|
Об измерениях температурной зависимости пьезосопротивления в некоторых аморфных соединениях типа Ат Ву сообщается в работе Фуса и Штуке [193].
8.3.C d G e A s 2 И АНАЛОГИЧНЫЕ ТРОЙНЫЕ СОЕДИНЕНИЯ
CdGeAs2 , изоэлектронный аналог соединений Аш Bv, кри сталлизуется в структуре халькопирита и может быть получен в аморфном состоянии при быстром охлаждении из расплава. Этотолько одно из соединений семейства нехалькогенидных стекол на основе CdAs2 или CdP2 . CdGeaAs2 является системой, для которой имеется больше всего данных. Червинка и др. [86] сооб щили, что слитки, полученные охлаждением из расплава, нагре того на несколько сотен градусов выше точки плавления, оказыва ются хрупкими, но внутренние напряжения могут быть сняты путем отжига при 200—250° С. Результаты дифференциальноготермического анализа (ДТА) имеют пик рекристаллизации (экзо
термический) при температуре |
выше 400° С и эндотермический |
пик при температуре примерно |
650 °С, соответствующий плавле |
нию. Рентгеновский анализ показывает, что в интервале между этими двумя температурами существует смесь по меньшей мередвух кристаллических фаз: CdGeAs2 (тетрагональный халькопи рит) и CdAs2 (тетрагональная фаза, но не халькопирит). Однако стехиометрический состав CdGeAs2 может оставаться аморфным. Стекла C d X K A s 2 , где X — элементы Ge, Si, T l , I n , A l , Sb, Mg- и Ga, a x изменяется приблизительно от 0,05 до 1,0, могут бытьизготовлены аналогичным путем и дают сходные результаты ДТА.
Анализ радиальной кривой распределения для аморфного CdGe,As2 [85] показывает, что число ближайших соседей в нем близко к четырем, а положение первого максимума есть среднее расстояние между атомами в CdAs2 . Цоследнее соединение имеет тетрагональную решетку (а = 11,275 А, с/а = 0,422), состоящую из тетраэдров, образованных из одного атома Cd и четырех ато мов As. В его структуре можно различить три переплетающиеся сетки, которые соединяются друг с другом связями между атома ми As. Вероятно, присутствие Ge (или других упомянутых вышеэлементов) разрушает эти связи, благоприятствуя стеклообразо-