Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 10.04.2024
Просмотров: 156
Скачиваний: 3
Ëi /,Д
Энергия фотона, эВ
Ф и г . '3.21. Зависимость поглощения пленок некоторых соединении II—VI
от энергии фотона при |
80 К [40]. |
|
Толщина пленок: 0,25 мкм (CdTe), 0,09 |
мкм (ZnTe), |
0,15 мкм (HgTe I), ~0,05 мкм |
(HgTe II), |
0,06 мкм (IlgSe). |
I
4 |
3 |
2 |
Энергия фотона, зВ |
|
|
Ф и г . 3.22. Зависимость поглощения пленок некоторых соединений III —V |
||
от энергии |
фотона при 80 К |
[40]. |
Толщина пленок: 0,25 мкм (InSb), 0,08 мкм (GaSb), 0,18 мкм (InAs), 0,24 мкм (GaAs).
01085—5
а» |
41* |
Энергии (в эВ) особенностей в спектрах поглощения тонких пленок и энергии (в эВ) соответствующих пиков в спектрах отражения толстых образцов и температурные коэффициенты этих энергий (в ед. 10~4 эВ/К)
Из работы [40]
66 |
Глава 3. Поглощение |
были получены численные значения, использованные при более точ ных теоретических расчетах. На фиг. 3.21 и 3.22 показаны для ил люстрации спектры поглощения соединений II—VI и III—V в обла сти больших энергий. В табл. 3.1 приведена интерпретация этих данных на основе межзонпых переходов в точке L (вблизи к = 111) и иа основе переходов в точке L из отщепленной валентной подзо ны. В этой же таблице данные поглощения сравниваются с резуль
татами, полученными из измере ний отражения.
В видимой и ультрафиолето вой областях в спектрах отра жения, полученных на полиро ванных, сколотых пли травлен ных поверхностях полупровод никовых кристаллов, имеется серия пиков (фиг. 3.23), соот ветствующих прямым переходам при больших эпергиях. Интен сивность и резкость этих пиков связана с высокой плотностью начальных и конечных состоя ний. Так, эти пики оказывают ся весьма интенсивными для переходов между уровнями, рас стояние между которыми оста ется постоянным в большой об ласти пространства квазиим пульсов, т. е. когда валентная зона и зона проводимости имеют параллельные ветви иа диаграм ме Е (к).
Ф к г. 3.23. Спектры отражения не которых соединений III—V при ком натной температуре [41].
Вплоть до энергий ~ 10 эВ наблюдаемая структура вызва на переходами из валентной зоны на расположенные выше уровни зоны проводимости. В области от 10 до 16 эВ наблюдается уменьше ние коэффициента отражения; в этой области происходит возбуж дение коллективных плазменных колебаний валентных электро нов. При энергиях, больших 16 эВ, в спектре отражения наблю дается широкий максимум, который приписывается переходам из заполненной зоны, лежащей ниже валентной зоны, в зону про водимости [42].
о
Эн ер ги я фотона, эВ
Фи г . 3.24. Экситоыное поглощение в GaAs [12].
Данные 1 — температура 294 К, данные 2 — температура 186 К, данные з — температура 90 К, данные 4 — температура 21 К.
5*
68 |
Глава 3. Поглощение |
§ 3. ЭКСИТОНИОЕ ПОГЛОЩЕНИЕ |
|
1. |
Прямые и пепрямые экситоны |
Оптическим переходам с образованием эксптоиов обычно соот ветствуют узкие пики иа краю поглощения полупроводников с пря мыми переходами пли ступеньки иа краю поглощения полупровод ников с непрямыми переходами. Теория экситонного поглощения была развита Эллиотом [43].
В полупроводниках с прямыми переходами свободный экситои образуется в результате^ поглощения фотона с энергией /іѵ = = Eg — Е х (Е х — энергия связи экситона). При к = 0 возникает очень резкий пик, который уширяется с повышением температуры, как это показано на фиг. 3.24. Экситоиы, обладающие некоторой
2,30 |
2,32 |
2,34 |
2,36 |
2,38 |
2,40 |
2,42 |
2,44 |
Энергия фотона, эВ
Ф и г. 3.25. Структура края поглощения GaP [44].
Стрелкаші указаны пороговые энергии образования экситонов с эмиссией фононов.
кинетической энергией, возникают при поглощении фотонов с боль шей энергией и дают вклад в поглощение в области межзонныхпереходов.
В веществах с непрямыми переходами для выполнения закона сохранения квдзиимпульса требуется участие фонона. Поэтому увеличение коэффициента поглощения наблюдается для переходов с поглощением фонона при энергии фотона
hv — Eg— Ер— Ех,
а для переходов с испусканием фонона при энергии фотона
hv = Eg-\-Ep — Ех.
£ 3. Экситонное поглощение |
69 |
В акустической (А) и оптической (О) ветвях фононного спектра имеется по два поперечных (Т) фонопа и по одному продольному
(L) фоиону. Возможны переходы с участием нескольких фононов, последние могут испускаться и поглощаться в различных комби нациях. Следовательно, на краю поглощения может наблюдаться много ступенек, как, например, иа фиг. 3.25.
На краю поглощения полупроводников с непрямыми перехода ми наблюдаются ступеньки, а не пики, поскольку в результате
Энергия фотона, эВ
Ф п г. 3.26. Край поглощения германия при 20 К [46].
участия фононов возможны переходы между состояниями, кото рым соответствуют одинаковые скорости dEldk, при этом энергия фотона больше, чем в случае, когда экситоны образуются вблизи края зоны (где dEldk = 0).
Образование прямых экситонов возможно даже в полупровод никах с непрямыми переходами в том случае, если имеются кри тические точки, соответствующие прямым переходам. В германии одна такая критическая точка имеется при к = 0 (прямой межзон ный переход). На фиг. 3.26 показан край поглощения германия в широком интервале коэффициентов поглощения: можно выделить компоненту при низких энергиях, связанную с поглощением фоно на (в этом масштабе структура, связанная с непрямыми экситонами, ие видна [45]); далее при ~ 0,77 эВ начинается поглощение с эмиссией фоиоиа; и, наконец, в области больших энергий, где возможны прямые переходы, коэффициент поглощения резко воз растает. При этом четко разрешается пик, соответствующий пря мым экситонам.
70 |
Глава 3. Поглощение |
2.Экситонное поглощение в электрическом поле [47]
Впочти чистых полупроводниках при низких температурах немногочисленные примесные атомы, содержащиеся в кристалле, нейтральны. Слабое электрическое поле (5 -у- 30 В/см) может, однако, иоипзовать эти примеси [48]. Ионизация примесей вызы вает два эффекта, которые можно наблюдать в спектре поглощения:
1) понпзованные примеси вызывают искажение зон, связанное с сильными локальными полями, и появление хвостов состояний, меняющее наклон края поглощения; 2) свободные носители, воз никшие в результате ионизации, экранируют кулоновское взаимо действие между электронами н дырками, уменьшая вероятность
|
а |
|
6 |
Ф и г . 3.27. а — спектры |
поглощения |
гермаппя, легированного сурьмой |
|
|
|
с N d = 8 -ІО15 см-3. |
|
Кривая 1 — Т |
= 4,2 К , без |
поля; кривая |
2 — Т — 4,2 К , поле Е = 100 В/см; кри |
вая з — Т = |
77 К. |
|
|
6 — спектры модуляции коэффициента поглощения германия при 4,2 К
электрическим полем, соответствующим полной ионизации примесиых центров.
Кривая А — Nd = 6 • ІО1'* см-3; кривая В — Nd = 2 -1015 см-3; кривая С — Nd = = 8 • 1016 см-3.
образования экситона и приводя к исчезновению экситонного пика. На фиг. 3.27, а показан спектр поглощения при 4,2 К германия, легированного сурьмой. Кривая 1 получена в отсутствие электри ческого поля; кривая 2 соответствует полю 100 В/см. Отметим исчез новение экситонного пика и более плавный наклон края поглоще ния для прямых переходов. Отметим также, что наклон края погло щения для прямых переходов одинаков как в том случае, когда доноры ионизованы электрическим полем (кривая 2), так н тогда, когда они ионизованы термически (кривая 3). Изменение коэффи циента поглощения, вызванное электрическим полем, показано на фиг. 3.27, б для трех образцов с различной концентрацией при
§ 4. Поглощение, связанное с изоэлектроппыми ловушками |
71 |
месей. В области эксытонного пика наблюдается заметное умень шение поглощения, тогда как по обе стороны от него поглощение возрастает, как если бы экситонная линия сильно уширялась элек трическим полем.
Факт ионизации примеси можно легко установить путем иссле дования вольт-амперной характеристики: оказывается, что моду ляция поглощения начинается при том же поле, при котором про исходит ударная ионизация. Модуляция поглощения насыщается с увеличением приложенного поля в результате полной иони зации примесей. Следовательно, модуляция связана с присут ствием свободных носителей. Отметим, что поля, использован ные в этнх экспериментах, много меньше тех, которые требуются для ионизации экситопов ( ~ ІО3 В/см). Таким образом, данный эффект хорошо объясняется экранированием взаимодействия элек тронов и дырок свободными носителями, освобожденными с при месей.
§ 4. ПОГЛОЩЕНИЕ, СВЯЗАННОЕ С ИЗОЭЛЕКТРОННЫМИ ЛОВУШКАМИ
Изоэлектронные центры образуются в результате замещения атома кристаллической решетки другим атомом с той же валент ностью. Примером может служить азот, замещающий фосфор в GaP (или висмут, замещающий галлий в GaP). G изоэлектроннойловушкой может быть связан экситон. Процесс образования свя занного эксптона можно представить следующим образом: нзоэлектроииая ловушка, созданная атомом азота, представляет собой сильно локализованную потенциальную яму, которая может захва тить электрон, в результате центр оказывается заряженным. Образующееся кулоновское поле притягивает дырку; два захва ченных носителя представляют собой экситон, связанный с иаоэлектронной ловушкой. Когда такие центры находятся близко друг от друга, они могут образовать пары, которым соответствует новый набор энергетических уровней для связанных экситонов [49]. Энергия связи экситонов, образованных на изоэлектронных, центрах, зависит от расстояния между последними. Пары с наимень шим расстоянием между атомамн обладают наибольшей энергией связи экситона. Спектр поглощения, связанный с такими экситонами, показан иа фиг. 3.28, а. Пик поглощения с наименьшей энергией (провал в спектре пропускания) соответствует наиболее сильно связанному экситону (пара ближайших соседей NN)\ другие пики поглощения соответствуют парам с большими межатомными расстояниями. Интенсивность пика поглощения зависит от числа пар, которые могут быть образованы вокруг одного атома азота
в |
данном кристаллографическом направлении (см. фиг. 3.28, б |
и |
3.28, в). |