Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 145

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

§ 6. Энергетические состояния в полупроводниковых сплавах

27

случае опять-таки скорость из менения ширины запрещенной зоны в зависимости от состава зависит от природы наинизшей долины. Так, в GaASi-.-cPa; энерге­

тический интервал, соот­ ветствующий прямым пере­ ходам, увеличивается с из­ менением концентрации GaP с большей скоростью, чем интервал, соответству­ ющий непрямым перехо­ дам. Эти энергетические интервалы оказываются равными при £= 0,44. Сле­ довательно, GaAs1_a.Px яв­ ляется полупроводником с прямыми переходами при 0 < £ < 0 ,4 4 и с непрямы-

Ф и г.

1.17. Зависимость

ши­

рины

запрещенной

зоны

от

состава сплавов

GeSi

при

 

296 К [28].

 

100

Содерж ание кремния, мол. %

ми — п р и 0 ,4 4 < £ < 1 . Как видно на фиг. 1.18, изменение E g (х) ока­ зывается приблизительно линейным в обеих областях изменения

Ф и г. 1.18, Зависимость ширины запрещенной зоны от состава сплава для системы GaASi.j. — Рж [30].

состава. Тройные сплавы полупроводниковых соединений II — VI оказываются полупроводниками с прямыми переходами при любом

28 Глава 1. Энергетические состояния в полупроводниках

соотношении между компонентами. В ZuS^a-Se^ ширина запрещен­ ной зоны линейно зависит от состава, тогда как в Zne^a-Te* й ZnSei-sTea- наблюдается аномально сильная нелинейная зави­ симость, которая до сих пор не получила объяснения [29].

В системе Hgj-j.Cdj.Té ширина запрещенной зоны меняется линейно от 1,6 эВ для CdTe до —0,14 эВ для HgTe [31, 32]. Отри­ цательная величина ширины запрещенной зоны означает, что мы

Ф и г . 1.19. Зависимость ширины запрещенной зоны от состава сплава для четырех систем типа (II—V I ) ^ —(III—Y)x. (По Блуму, частное сооб­

щение.)

Данные 1 , 2 , 3 получены в работе [34]; данные 4 — в работе [33], а данные 5 — Хокингсом и Робинсоном (частное сообщение).

имеем дело с полуметаллом, когда зона проводимости и валентная зона перекрываются. Возможность получения малой ширины запрещенной зоны в этом соединении делает его очень перспек­ тивным для обнаружения инфракрасного излучения. Сплавы из четырех компонент на основе полупроводниковых соединений III—V и II—VI были синтезированы в широкой области измене­ ния состава [33—35] х). Однако их оптические свойства свидетель­ ствуют о сильно нелинейной зависимости ширины запрещенной зоны от состава (фиг. 1.19).

г) Этим вопросом занимались также Хокинге и Робинсон (Е . F. Hackings, J. W. Robinson, частное сообщение).



Литература

29

Задача 1. Зона проводимости германия состоит из долин (111) на краю зоны Бриллюэна, «прямой» долины (000), находящейся на 0,15 эВ выше дна зоны проводимости, и шести долин (100), расположенных на 0,18 эВ выше дна зоны проводимости. Величины продольных и поперечных эффективных масс составляют:

(111) m f — 1,58m, mf = 0,082т,

(000)

т^ = т*=0,036т.,

(100)

m f = 0,19т,

mf = 0,97m-,

где т — масса свободного

электрона =

9 ПО-28 г.

Найдите положение уровня Ферми (отсчитанное от дна зоны проводи­ мости) при 0 К и концентрации электронов 2 -ІО18 см-3.

Задача 2. Напишите выражение для энергии электрона в зоне прово­ димости для полупроводника с эллипсоидальными пзоэнѳргетическими поверхностями. Оси координат в к-пространстве выберите совпадающими с главными осями эллипсоида постоянной энергии. Выведите выражение для плотности состояний в единичном интервале энергий на единицу объема

кристалла.

 

 

 

ЛИТЕРАТУРА

1.

Kimball G. Е., Journ. Chem. Phys., 3, 560 (1935).

2.

Herman F., Proc. IRE, 43, 1703 (1955).

3.

Dexter R. N., Zeiger H., Lax B., Phys. Rev., 104, 637 (1956).

4.

Parada N. / . , Pratt G. W., Jr., Phys. Rev. Lett., 22, 180 (1969)*

5.

Stern F., Talley R. M ., Phys. Rev., 100, 1638 (1955).

6.

Baltensperger W., Phil. Mag., 44, 1355 (1953).

7.

Aigrain P., Physica, 20,

978 (1954).

8.

P armenter R. H ., Phys.

Rev., 97, 587 (1955).

9.Бонч-Бруевич В. Л ., Proc. Int. Conf. Phys. Semiconductors, Exeter,

1962, p. 216; Sov. Phys. Sol. State, 5, 1353 (1964); The Electronic Theory

of Heavily Doped Semiconductors, American Elsevier, 1966.

10.Wolff P. A ., Proc. Int. Conf. Phys. Semiconductors, Exeter, 1962, p. 220.

11.Conwell E. M., Levinger B. W., Proc. Int. Conf. Phys. Semiconductors,

Exeter, 1962, p. 227.

12.Kane E. O., Phys. Rev., 131, 79 (1963). •

13.

Halperin В. I., Lax M., Phys. Rev., 148, 772 (1966).

14.

Morgan T. N., Phys. Rev., 139, A343 (1965).

15.

Shockley W., Bardeen / . , Phys. Rev., 77, 407 (1950).

16.

Knox R. S., Theory of Excitons в книге: «Solid State Physics», eds. Seitz F.

 

and Turnbull D., Academic Press (1963), Suppl. 5. (Имеется перевод:

 

Нокс P. С., Теория экситонов, изд-во «Мир», 1966.)

17.Mahan G. D., Phys. Rev., 153, 882 (1967).

18.Lampert M. A ., Phys. Rev. Lett., 1, 450 (1958).

19.Haynes J. R., Phys. Rev. Lett., 17, 860 (1966).

20.Haynes J. R., Phys. Rev. Lett., 4, 361 (1960).

21.Kohn W ., Phys. Rev. Lett., 4, 361 (I960).

22.Hopfielâ J. J., The Quantum Chemistry of Bond Exciton Complexes,

Proc. 7th Int. Conf. Phys. Semiconductors, Paris, Dunod, 1964, p. 725.

23.Hopfield J. J., Radiative Recombination at Shallow Centers в книге:

«II—VI Semiconducting Compounds», ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 786. •

24.Tait W. C., Cambell D. A ., Packard J. R., Weiher R. L., Luminescence

from Inelastic. Scattering of Polaritons by Longitudinal Optical Phonons, в книге: «II—VI Semiconducting Compounds», ed. Thomas D. G., Benja­ min. 1967, p. 370.


30 Глава 1, Энергетические состояния в полупроводниках

25.Eagles D. М ., Phys. Rev., 145, 645 (1966).

26.Reiss Н., Fuller С. S., Morin F. J., Journ. Bell Syst. Techn., 35,535(1956).

27.Hopfield J . / . , ThomasD. <?., Gershenzon M ., Phys. Rev. Lett., 10 162 (1963).

28.

Braunstein

R., Moore A . R., Herman F., Phys. Rev., 109, 695 (1958).

29.

Larach

S.,

Shrader R .

E., Stocker C. F., Phys. Rev., 108, 587 (1957).

30.

Tietjen

J.

J., А mich

J. .4., Journ. Electrochem. Soc., 113, 724 (1966).

31.Harman T. C., Kleiner W. H., Strauss A. J., Wright G. B., Mavroides J. G., Honig J. M., Dickey D. //., Solid State Comm., 2, 305 (1964).

32.Long D., Schmit J. L-., Hgl _a.Cd1.Te and Closely Related Alloys, в книге:

«Semiconductors and Semimetals», eds. R. K. Willardson and A. C. Beer,

33.

Academic

Press, в

печати.

M-, Nemeth T.,

Richter K., Proc.

Bertoti

Farkas-Jahnke M ., Harsy

 

International Conf.

on Luminescence, Hungarian Academy of Science,

34.

Budapest,

1968., p.

1261.

2617

(1969).

1

Yim W. M ., Journ.

Appl. Phys., 40,

35.

Ku S. M .,

Bodi L.

J., Journ. Phys.

Chem.

Sol., 29,

2077 (1968).

Г Л А В А 2

ВОЗМУЩЕНИЯ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ, ВЫЗЫВАЕМЫЕ ВНЕШНИМИ ВОЗДЕЙСТВИЯМИ

Теперь мы рассмотрим, каким образом внешние воздействия влияют иа разливные энергетические уровни полупроводников. К числу контролируемых внешних воздействий относятся: давле­ ние, температура, электрическое и магнитное поля. Давление может быть гидростатическим или одноосным; оно влияет на по­ тенциальную энергию всех уровней. Температура влияет иа поло­ жение уровней через внутреннее давление, которое она вызывает; она также изменяет населенность различных уровней.

Электрическое поле поляризует решетку и, если оно достаточно сильное, вызывает расщепление уровней (эффект Штарка). Но на­ иболее существенным оказывается эффект Келдыша — Франца, который приводит к эффективному уширеншо всех уровней.

Магнитное поле вызывает расщепление Ландау всех состояний зоны проводимости и валентной зоны и расщепление Зеемана при­ месных и экситонных состояний.

Зная все эти эффекты, можно проводить идентификацию раз­ личных уровней, которые участвуют в оптических процессах, в том случае, когда детали механизма неясны.

§ 1. ВЛИЯНИЕ ДАВЛЕНИЯ

1. Гидростатическое давление

. Гидростатическое давление уменьшает расстояние между ато­ мами. Как видно из фиг. 1.1, меньшему расстоянию между ато­ мами отвечает большая ширина запрещенной зоны. (Однако в неко­ торых материалах, например в Те и PbSe, ширина запрещенной зоны уменьшается с уменьшением межатомного расстояния, т. е. с увеличением давления.) Можно принять, что для малого изме­ нения Аа постоянной решетки энергия уровня Е меняется линей­ но с Аа:

Е = EQ-f- Ei Ae,

где E 0 — энергия уровня при нулевом давлении, а ^ — коэффи­ циент, вообще говоря, различный для разных уровней. Следова­ тельно, зависимость ширины запрещенной зоны от давления будет


32 Глава 2. Возмущения в полупроводниках

определяться величиной

= С^іс + Ей)

где Е1Си Е1В — коэффициенты, характеризующие изменение поло­ жения краев валентной зоны и зоны проводимости с давлением. Поскольку разные долины характеризуются различными коэффи­ циентами (некоторые — по­ ложительными, некоторые — отрицательными), то может оказаться, что при достаточно больших деформациях полу­ проводник превратится из ма­ териала с прямыми перехода­ ми в материал с непрямыми

переходами

(или наоборот).

Зависимость

ширины запре­

щенной зоны германия

от

давления

показана

на

фиг. 2.1. Коэффициенты,

ха­

рактеризующие изменение ве­ личины энергетического зазо­ ра (между вершиной валент-

Ф п г. 2.1. Зависимость ширины запрещенной зоны германия при 350 К от давления [1].

Следует отметить нелинейную зависи­ мость в области высоких давлений.

ной зоны и различными минимумами'зоны проводимости) с дав­ лением, для ряда полупроводников представлены в табл. 2.1 х).

Отметим, что в германии и многих полупроводниках типа III— V зависимости величин энергетического зазора между зонами в.точ­ ке Г («прямой зоны») от давления оказываются схожими. Различие

вскоростях и знаках изменения положения разных минимумов

взависимости от давления может приводить к тому, что ширина запрещенной зоны будет проходить через максимум или минимум при достаточно больших давлениях. Так, в германии ширина запрещенной зоны максимальна при 50 кбар [2]. Это легко понять, если учесть, что при повышении давления долины (111) движутся вверх, а долины (100) — вниз. При 50 кбар минимумы обоих наборов долин оказываются при одной и той же энергии.

г) Для краткости мы называем их далее коэффициентами давления.—

Прим. ред.

 

 

 

$ 1. Влияние

давления

 

 

 

33

 

 

 

 

 

 

Таблица 2.1

 

 

Коэффициенты давления *

 

 

 

 

 

 

Из работы [3]

 

 

 

 

 

(ѲЕ /ЭР)Г -10°

( эВ-см^/кГ) для минимума зоны

 

 

 

 

 

проводимости ** в точках

 

Литература ****

 

 

 

 

 

 

 

г ***

X

 

L

 

 

 

С

 

 

< 1 ,0

5,0

 

[4]

 

Si

 

- 1 ,5

[4, 4]

Ge

12,0

от 0 до

—2,0

5,0

[4,

4,

5]

Sn

 

 

5,0

 

[6]

 

AlSb

 

— 1,6

 

[7]

 

GaP

10,7

—1,1; - 1 ,7 ; - 1 ,8

[8, 8, 9, 4]

GaAs

9,4;

12,0

- 8 ,7

[9,

4,

9]

InP

со KJ*'

KJ* СО

-1 0 ,0

17,

Ю,

7|

GaSb

12,0;

16,0

< 0

5,0; 7,3

[7 ,1 1 ,7 ,4 ,7 ]

InAs

4,8; 8,5;

5,5; 10,0

 

.3,2

17, И, 12, 10,7]

InSb

14,2;

15,5

 

 

[13, 14]

 

* Некоторые коэффициенты получены как из электрических, так и из оптических

измерений.

 

 

 

 

 

 

 

 

** Существование минимума подтверждено или предполагается.

 

<і 1 і >.

 

*** Точка Г находится при /t = <000 >, X — при /г =

< 100 > и L — при h =

**** в данном столбце указана соответствующая работа для каждого из приведен них в строке (слева направо) результатов. — Прим, ред.

В GaAs минимум зоны проводимости для прямых переходов движется вверх быстрее, чем минимум для непрямых переходов. Следовательно, при повышении давления материал в конце концов становится полупроводником с непрямыми переходами. Когда оба типа минимумов оказываются при одинаковой энергии, подвиж­ ность электронов резко уменьшается и процесс излучательной рекомбинации электронно-дырочных пар становится менее эффек­ тивным.

Влияние гидростатического давления на энергию связи свобод­ ных экситонов и экситонных молекул должно быть малым и про­ являться только через зависимость диэлектрической проницаемо­ сти от давления. Однако когда под действием давления меняется тип долин, обладающих наименьшей энергией, эффективная масса для наинизшей зоны проводимости резко меняется, вызывая соответствующее изменение энергии связи экситона.

Энергия ионизации примесей слабо зависит от давления. В ка­ честве примера в табл. 2.2 приведены коэффициенты давления для энергий ионизации примесей в германии и кремнии. Поскольку энергия ионизации примесей мало меняется с давлением, примес­ ный уровень движется вместе с краем зоны, с которой он связан.

3-01085