Файл: Третьяков Ю.Д. Химия нестехиометрических окислов.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 11.04.2024

Просмотров: 281

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

и

используя

значения 5 (О2-) # %

— S(Cu20) =

15,7 э.

е.,

S(O2) = 60 э . е„

 

3

э. е.

 

 

[300], находим S(Vcu) =

12,1

 

 

 

В интерпретации Мотта и Гарнея [308]

энтропия вакансий

представляет собой изменение энтропии кристалла,

обусловлен­

ное

изменением

частоты атомных колебаний.

Если

введение

ва-

Рис. 3.25. Диаграмма, характеризую­ щая равновесные условия образова­

ния нестехиометрического куприта

Си201±ѵ

Рис. 3.26. Расположение атомов

вблизи

вакансий в решетке куп­

рита;

ф — катионная вакансия;

® —атомы кислорода; О — ато­ мы меди

кансии изменяет вибрационную частоту

і — ближайших соседей,

то изменение энтропии

одной вакансии

равно

ѵ0

где

Sfe ln ----,

Si — число ближайших

к вакансии атомов или

V

таком

ионов. В

случае изменение энтропии, обусловленное образованием в кри­ сталле 1 моля вакансий, равно

S(V&) = 2 S i R \ n ( ^ - y

(3.82)

Заметим, что изменение частоты колебаний ионов О2-, вызванное образованием вакансий в решетке, пренебрежимо мало [301].

Другое дело — катионы. В решетке куприта каждая вакансия имеет два рода ближайших соседей (рис. 3.26). Шесть катионов расположены в плоскости, перпендикулярной линии, соединяю-

182


щей два ближайших кислородных атома. Три катиона, располо­ женные выше и три катиона — ниже этой плоскости, частично экранированы ионами кислорода. По этой причине можно при­

нять vo= Vj для всех

катионов, кроме шести. Для

шести ближай­

ших катионов

 

 

 

 

Ѵ і =

2

r U j f \ \ ß

1,33-ІО12 сек~1,

 

 

\ М J

 

Яа0

 

 

где а0— постоянная

решетки, М — масса катиона,

а AHf — энер­

гия переноса иона в соседнюю с ним вакансию, равная для за­ киси меди 12,1 ккал!моль [291]. Принимая для ѵо эйнштейновскую

k&L

8,5-1012

сек-', из

уравнения (3.82)

находим

частоту

h

 

 

 

 

 

5 (Ѵм) = 22 э.

е.

Это

значение

неплохо согласуется

с экспери­

ментальной величиной и свидетельствует в пользу того, что боль­ шая положительная энтропия реакции (3.81) обусловлена глав­ ным образом уменьшением вибрационной частоты шести катио­ нов, расположенных по соседству с образуемой вакансией.

Выполненные

на

монокристаллах

измерения

электропровод­

ности

закиси меди

показали, что

в

равновесных

условиях

<т сС PoJ

и проводимость имеет исключительно дырочную при­

роду в

широком

интервале температур

и Ро2

[302,

303]. Тем

самым подтверждается возможность значительной ионизации ва­ кансий по реакции

 

ѴЙ^Ѵм + h \

 

При условии

беспорядочного распределения

дефектов р = [Ѵм] ^

— [Ѵм]1/2, а

с 'учетом соотношения (3.77)

оасрасРЦ?. Энергия

ионизации нейтральных катионных вакансий составляет 0,3 э. е. [304]. По наблюдениям О’Кифа [297], проводимость закаленных образцов закиси меди несущественно отличается от медленно ох­ лажденных, хотя последние характеризуются более высокой нестехиометрией. Предполагают, что это вызвано агрегацией вакансией, которую нельзя предотвратить даже самой резкой закалкой. Как следствие концентрация моновакансий, ионизация которых определяет величину проводимости, приблизительно оди­ накова как в закаленных, так и в медленно охлажденных образ­ цах. Дополнительным подтверждением агрегации могут служить измерения парамагнитной восприимчивости в закиси меди, в со­ ответствии с которыми число магнитных центров в закаленных образцах «Си20» более чем на порядок ниже числа вакансий [295]. Пониженная парамагнитная восприимчивость может быть

также следствием

агрегации вакансий,

ведущей к

спариванию

спинов.

 

 

 

Окись меди (тенорит) «СиО» кристаллизуется в моноклин­

ной сингонии с

параметрами ячейки

а = 4,653А,

5= 3,310 Â,

183


с= 5,180 А и ß= 99°29' [305]. Независимость

электропроводности

окиси меди от давления кислорода

при повышенных температу­

рах объясняют [306] значительной

степенью

собственного

элек­

тронного разупорядочения O+^e' + h' и малым вкладом в

прово­

димость нестехиометрических дефектов.

Используя метод кулонометрического титрования в гальвани­ ческой ячейке с разделенным над электродами газовым простран­ ством

Pt I «CuO» I Zr02 (CaO) I 0 21Pt.

Комаров [221] измерил нестехиометрию окиси меди CuOi_v в ин­ тервале температур 1070—1115°С и Рог от 400 до 1900 мм рт. ст. Полученные им данные лучше всего описываются уравнением

365 000 + 20 000

у 5,5-1054• Ро2 • ехр

Следовательно, окись меди является фазой с дефицитом ки­ слорода, который, вероятнее всего, связан с образованием кати­

онных вакансий. Значение характеристического

числа

п = —0,5

в уравнении типа у КРЦ" можно объяснить,

если

допустить,

что доминирующими дефектами решетки являются ассоциации анионных вакансий, образуемые по реакции

4 0 g ^ [(V g )J+ 20 2.

В таком случае у = -^-[(Ѵо)4]осРо2.

Неправдоподобно велика энтальпия дефектообразования (365 ккал/моль). Возможность образования стабильных окислов, отвечающих более высокой валентности меди, чем +2, по-види­ мому, исключается.

Система цинк — кислород. Единственное кислородное соеди­ нение цинка «ZnO» имеет гексагональную структуру типа вюрцита с постоянными решетки a = 3,249Â и с= 5,206А. Электриче­ ские [309—312], люминесцентные [313—314] и каталитические свой­ ства [315, 316] окиси цинка обычно связывают с ее нестехиометрией, хотя величина последней не установлена достаточно досто­ верно. Трудности исследования равновесных условий образова­ ния нестехиометрической окиси цинка обусловлены в первую

очередь высокой диссоциационной летучестью ZnO^-Zn(nap)4—^ 0 2.

Единственное, по-видимому, исследование, характеризующее по­ ведение окиси цинка в состоянии полного термодинамического равновесия, выполнено Полом [317]. Он показал, что проводи­ мость образцов «ZnO», нагретых при 1400—1700°С в атмосфере кислорода, давление которого изменялось от 1 до 40 атм, описы­ вается уравнением

184


 

а = 8 ■106Ро21/5 exp ^

^

(рмгх ■см~х).

 

Уменьшение

величины

а по мере повышения Р о2

означает, что

проводимость

обусловлена донорами,

появляющимися в решетке

в результате одной из реакций

 

 

 

 

 

 

 

o ^ - | o 2 + vg ? Y ° 2 + v ° + e'

 

 

или

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

о -Г о 2 + z n,x :Z

у

O2 -Г Zni + e’.

 

 

В

любом

случае,

считая,

что

подвижность

электронов

ѵе =

10 см2-в—1•сек~1, получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/

52900

\

 

(3.83)

 

 

п = 1,2 -102Р'о/25ex4

T

)•

 

Примечательно, что, по данным Пола [312], окись

цинка

имеет

дефицит кислорода даже при Ро2=40 атм и 7'=1500°С.

 

 

Авторы работы [318] дали убедительные доказательства, что

окись цинка

является фазой внедрения, в которой

сверхстехио­

метрические

атомы цинка располагаются в октаэдрических узлах

кубической

упаковки

ионов кислорода (по

отношению к

струк­

туре вюрцита эти узлы следует рассматривать как междоузлия). По данным [318], при низких температурах основным видом де­

фектов в Zni+aO

являются нейтральные центры

Zn*,

кон­

центрация

которых

у

образцов,

обработанных в парах Zn при

1000°С, оценивается

величиной

б ^

3,6-ІО-4 . Сопоставление ее

с величиной

[Zn(l = п,

рассчитанной

по уравнению

(3.83),

пока­

зывает, что при 7'>1400—1700°С почти весь цинк в междоузлиях ионизирован.

При температуре ниже 1000° С значительная доля Zni нахо­ дится в виде нейтральных атомов, и это, в частности, объясняет результаты многих диффузионных и электрических измерений. По данным Томаса [309], в окиси цинка, обработанной в насы­

щенных парах

цинка, эффективный коэффициент диффузии

 

= 5,3• ІО-4 exp ( —

) (см2■сек~х),

а концентрация

внедренных ионов

цинка, играющих, по-видимому,,

доминирующую роль в массопереносе (rZn2+ = 0,74 А, а rZr]X = 1 ,ЗА)Ѵ выражается уравнением

[Zn[] = 7- IO“ 3exp

откуда при 1000°С [Zn[]=2,1 ■ІО-5.

1 8 5


Эта величина более чем на порядок ниже суммарной кон­ центрации избыточного цинка, найденной Азаровым [318] и неза­ висимо от него Муром и Вильямсом [319]. Данные последних по растворимости избыточного цинка в кристалле окисла выражают­ ся уравнением

[Zn,lcyM= 3,5- 10-*Р£п46-°’63ехр ( ----

Измерения электропроводности окиси цинка, находящейся в равновесии с насыщенными парами цинка [311, 317], позволили оценить концентрацию свободных электронов уравнением

п = 3,6- І О - 3 exp^~^ 5—у

Если полагать, что электроны образуются в результате иониза­

циивнедренныхатомов, то

[ Z r i i ] = п =

2 - І О - 5

при 1 0 0 0 ° С и

Pzn=l атм, что

совпадает

с величиной,полученной Азаровым

[318]. Учитывая, что реакция

 

 

 

 

о

д

| о 2 + г п,х

(3.84)

намного медленнее

процесса

 

 

 

 

Z n f ^ Z n i +

e',

(3.85)

легко объяснить наблюдавшиеся Томасом [320] изменения свойств окиси цинка — длительная обработка кристалла в парах Zn при температуре >800°С приводила к появлению красной люминес­

ценции (обусловлена присутствием Zn Г) и увеличению проводи­ мости (обусловлена свободными электронами, концентрации ко­

торых n = [Zn\]). Дополнительный отжиг на воздухе при 500—600°С не изменил окраски кристалла (равновесие і(3.84) фактически заморожено), но проводимость резко снижалась из-за быстрой

аннигиляции электронов по реакции Zn* ё -»-Zn*. Окраску кристаллов удавалось устранить лишь длительным отжигом на воздухе при 900°С (этот отжиг необходим для осуществления мед­

ленного процесса

0 2 + ZniX О).

Наблюдавшаяся некоторыми авторами [320] зависимость

коэффициента диффузии Dzn от предварительной высокотемпе­ ратурной обработки кристалла также объясняется относительной подвижностью и концентрацией нейтральных и ионизированных

центров Zn*. Суммарная концентрация сверхстехиометрического цинка определяется, видимо, только условиями высокотемпера­ турной обработки (когда равновесие (3.84) устанавливается до­ статочно быстро). Изменение температуры кристалла, прошед­ шего высокотемпературную обработку, в пределах 400—800°С

186