Файл: Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 15.10.2024

Просмотров: 189

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

 

 

Некристаллические

полупроводники

275

б) В As2 Se3 и аналогичных хапькогеиидных сплавах при пере­

ходе

в

аморфное состояние сохраняются основные

особенности

колебательного спектра, но исчезает тонкая структура

(фиг. 7.40)

(из

работы [31]).

 

 

 

 

в) В CdGeAs2 , а также в других материалах с преимущест­

венно ковалентиой связью, в аморфной фазе

отсутствуют колеба­

тельные

полосы, характерные для

кристалла

(см. фиг. 8.41). Это

обусловлено уширением вследствие статистического разброса частот осцилляторов.

Исследование рамановских спектров селена также показывает, что молекулярные колебания сохраняются неизменными при пере­ ходе в неупорядоченное состояние. У германия и кремния тоже наблюдается значительное сходство рамановских спектров кри­ сталлической и аморфной фаз 1 ) .

Спектры поглощения аморфного S i 0 2 и аналогичных ему сте­ кол в далекой инфракрасной области изучались в работах Стоулена [477], Уонга и Волли [546], Белла и др. [49]. Белл и Дин [50] рассчитали колебательные спектры ряда неупорядоченных струк­ тур н показали, важную роль локальных колебаний (например, для ЭЮг).

7.7.ДРУГИЕ РЕЗУЛЬТАТЫ ИЗМЕРЕНИЙ

7.7.1.ФОТОЭМИССИЯ ИЗ АМОРФНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Фотоэмиссия является одной из наиболее ценных эксперимен­ тальных методик для изучения зонной структуры электронов полупроводника. Электроны эмиттируются в вакуум, совершив предварительно переход из валентной зоны в проводящее состоя­ ние. Экспериментальное исследование оказывается наиболее пол­ ным, когда измеряется энергетическое распределение эмиттированных электронов при различных энергиях фотона. К сожалению, такие эксперименты довольно сложны и для их интерпретации тре­ буется большое мастерство. К моменту написания этой книги с помощью такой методики был тщательно исследован только аморфный германий.

Если падающий пучок света монохроматичен (энергия фотона равна Tia), то энергетическое распределение эмиттировэнных электронов дается выражением

N {Е, ha) dE =

Т (Е) S (Е, ha) Ne (Е) Nv (Е -

ha)dE.

Здесь К (%а) — множитель, характеризующий спектральную чув­ ствительность аппаратуры, а (Йсо) коэффициент поглощения, Т (Е) — вероятность выхода электрона с энергией Е, S (Е, Йю) —

х) Smith, Brodsky, Crowder, Nathan, частное сообщение.

18*


276

Глава 7

доля электронов, сохраняющих энергию Е после различных про­ цессов рассеяния. Фотоэмиссия пропорциональна присоединен­ ной плотности состояний валентной зоны и зоны проводимости; при этом предполагается, что не существует ограничений, связан­ ных с законом сохранения квазиимпульса.

Метод фотоэмиссии имеет два важных преимущества перед другими методами. Первое заключается в том, что энергию элек­ трона, соответствующую максимуму произведения NcNv, можно связать с энергией, которая соответствует вершине валентной

NC(E)

Nv(E-nco)

NCNV

T(Ej

NCNV Г

Ф и г. 7.41. Схематическое изображение функций, описывающих экспери­ менты по фотоэмиссии.

зоны. В экспериментах по оптическому поглощению измеряются только разности энергий, тогда как в методе фотоэмиссии могут быть измерены абсолютные значения энергии. При этом требует­ ся знать электронное сродство, которое может быть измерено с помощью методики задерживающего потенциала. На практике, однако, максимальное значение задерживающего потенциала (для данной энергии кванта % со), которое соответствует верхней гра­ нице энергетического распределения электронов, непосредствен­ но связано с энергией электрона в вершине валентной зоны. Второе преимущество методики фотоэмиссии можно оценить, рас­ смотрев схемы плотностей состояний, изображенные на фиг. 7.41. Плотность состояний в валентной зоне (площадь под ней заштри­ хована) приподнята на энергию Йсо, что позволяет легко изобра­

зить произведение NQNV.

Эта величина умножается на функцию

Т ( Е ) , что позволяет

получить энергетический спектр эмиттиро-

Некристаллические полупроводники

277

ванных электронов, если считать,что S=const . При другом значе­ нии энергии фотона спектр электронов изменяется. Пики спектра электронов, положения которых не меняются при изменении энергии фотонов, связаны с положениями максимумов в плотности состояний в зоне проводимости. Те же пики, положение которых смещается с изменением энергии фотона, связаны с максимумами

1,0

0,8

V 0,6

О,*

о, г

-4

о

2

4

Ф п г. 7.42. Оптическая плотность состояний аморфного гермаипя, определен­ ная по фотоэмисспи (сплошная кривая взята из работы [135]).

П у н к т и р ом изображена расчетная кривая [239] .

плотности состояний в валентной зоне. Таким образом оказывает­ ся возможным в принципе определить функции Nc (Е) и Nv (Е) по отдельности. Обычно трудно получить существенную информацию относительно Nc (Е), поскольку состояния зоны проводимости, расположенные ниже вакуумного уровня полупроводника, ие могут наблюдаться с помощью такой методики. При нанесении на поверхность слоя цезия происходит изменение работы выхода, и, таким образом, появляется возможность расширения наблюдае­ мого участка зоны проводимости.

Оптическая плотность состояний аморфного германия, опреде­ ленная в работе Доиована и Спайсера [135] методом фотоэмиссии, приведена на фиг. 7.42. Эти результаты будут обсуждаться в гл. 8.

7.7.2. ЭЛЕКТРОННЫЙ ПАРАМАГНИТНЫЙ РЕЗОНАНС

Бродский и Тайтл [70] исследовали ЭПР на пленках аморфных германия, кремния и карбида кремния. Сравнивая значения g-фактора, ширину и форму линии ЭПР, полученные на аморфном


278 Глава 7

веществе и на свежесколотой поверхности монокристалла, эти авторы пришли к заключению, что сигнал ЭПР обусловлен нали­ чием разорванных связей. Их результаты приведены в табл. 7.6.

Высокая плотность спинов ( ~ 1 0 2 0 см - 3 )

является

истинно объем-

 

 

 

 

 

 

 

Таблица

7.6

 

Сравнение данных по ЭПР, получеипых на пленках аморфных

 

 

полупроводников и на кристаллических материалах

 

 

Плотности сппнов даются с точностью до множителя

порядка

2. Данные по

аморфным

пленкам взяты из работы [ 7 0 ] , данные для

кристаллов — из

р а б о т ы [ 5 3 1 ]

(см.

также

 

Аморфные пленки (77 К )

Кристаллические

Кристаллы,

облу ­

 

поверхности

 

ченные нейтронами

 

 

 

 

 

М а т е ­

 

плотность

 

 

 

 

 

 

риал

 

ширина

 

ширина

 

ширина

 

^-фактор

сппнов,

g-фактор

g-фактор

 

линии, Г с

с м - з

линии,

Г с

линии, Г с

S i

2,0055

4,7

2-102 °

2,0055

7 - 8

2,0055

1 6 - 2 0

± 0 , 0 0 0 5

 

 

± 0 , 0 0 2

 

 

 

 

 

 

 

1-1020

 

 

 

 

 

Ge

2,021

39

2,023

50

 

 

 

 

± 0 , 0 0 1

 

 

± 0 , 0 0 3

 

 

 

 

 

 

6

 

 

 

 

 

 

S i C

2,003

 

2,0027

5,5

 

 

 

 

± 0 , 0 0 1

 

 

± 0 , 0 0 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ной плотностью. При отжиге аморфного кремния (см. 8.1.4) эту плотность можно уменьшить в 10—100 раз, когда температура приближается к температуре перехода в кристаллическое состо­ яние (~ 450 °С). Наблюдаемая ширина линии сравнительно неве­ лика; это позволяет предположить существование обменного ме­ ханизма сужения линии вследствие перемещения неспаренного электрона оборванной связи с одного атома на другой.

Аналогичные исследования халькогенидных

стекол г ) показа­

ли, что в них имеется значительно меньшая

плотность таких

центров.

 

7.7.3. М А Г Н И Т Н А Я ВОСПРИИМЧИВОСТЬ

В работе Червинка и др. [85] была измерена температурная зависимость магнитной восприимчивости стекол типа CdGex As2 (гл. 8). В отличие от кристаллов CdAs2 и CdGeAs2 , у которых диамагнитная восприимчивость не зависит от температуры, вос­ приимчивость стекол имеет слагаемое, зависящее от температуры и подчиняющееся закону Кюри. Полную магнитную восприимчи-

) Friizsche, частное сообщение.


IIекристаллические

полупроводники

279

востъ можно представить в виде

 

 

Х = Хо +

4 »

(7-40)

где

 

 

Здесь п — концентрация магнитных моментов и.,

р — плотность

вещества. Используя эту формулу, Червинка и др. получили, что концентрация парамагнитных центров в стекле CdGeAs2 состав­ ляет 102 0 с м - 3 . Аналогичные измерения Тауца и др. [498] иа стекле As 2 S 3 показали, что в этом материале концентрация свободных спинов равна 6-101 7 см~3 . Диамагнитная составляющая %0 стекол As2Sx была измерена Цимплом и др. [98].

7.8. НЕОМИЧЕСКИЙ РЕЖИМ ПРОВОДИМОСТИ В СИЛЬНЫХ П О Л Я Х

Как показали многие эксперименты, плотность тока в тонких пленках аморфных полупроводников, так же как и в большинстве кристаллических материалов, в сильном электрическом поле воз­ растает сверхлинейно. Мы не стремимся дать обзор эксперимен­ тальных работ; для этой цели можно порекомендовать Journal of Non-Crystalline Solids (Vol. 4), где помещены доклады конферен­ ции по этим вопросам, состоявшейся в Кембридже в 1969 г. Однако отметим возможные механизмы, приводящие к сверхлинейиости, и опишем некоторые эксперименты.

а) Эффект Френкеля — Пула. Если полупроводник —кристал­ лический или аморфный — содержит доноры, то, как было пока­

зано Френкелем [178]

вслед за более ранними работами

Пула

[422 , 423], электрическое поле F уменьшает энергию ионизации

центра на величину

где

 

 

Р = ^ -

(7-42)

Потенциальная энергия электрона показана на фиг. 7.43. При вы­ воде формулы (7.42) предполагалось, что возможностью туннелироваиия сквозь барьер можно пренебречь. Модель, приводящая к (7.42), является одномерной. Трехмерные задачи рассматрива­ лись Джоншером [262] и Хартке [230]. Однако при понижении температуры эффект туннелирования становится существенным; соответствующие формулы были выведены в работе Хилла [242], где они были применены для объяснения экспериментальных результатов, полученных различными авторами на пленках аморф­ ного SiO. Теория оказалась в хорошем согласии с экспериментом. Предполагалось, что электрон, освободившись из ямы, не захва­ тывается более никакой другой ловушкой в пленке.