Файл: Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 15.10.2024

Просмотров: 200

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

 

Некристаллические

полупроводники

223

Следует ожидать, что время релаксации т весьма

мало, поряд­

ка 1 0 - 1 5 с .

Поэтому поглощение

на свободных носителях, для

которого

о (со) ~ со- 2 , будет проявляться только

при частотах

выше 101 5 Гц. Это соответствует энергии фотона, которая превос­ ходит край фундаментального поглощения для тех аморфных материалов, которые мы здесь рассматриваем. Помимо этого, формула Друде применима, как мы видели в 2.10, лишь в случае гораздо меньших значений времени жизни т. Тем* не менее она хорошо описывает экспериментальные данные для большинства жидких металлов, за исключением жидкого теллура (см. 3.15). Даже если время жизни велико, следует ожидать отклонений

Ф и г. 7.13. Зависимость

функции со [In

(1/сот0 )]4

от со для различных значе­

ний т 0 , показывающая

близость этой

функции

к со0 .8 , когда што <С1-

от формулы Друде, если плотность состояний существенно изме­ няется на интервале энергии /г/т. Вклад в проводимость от свобод­ ных носителей (внутризонное поглощение) был рассчитан для аморфного полупроводника в 7.6.5. Здесь следует подчеркнуть, что в радиочастотном диапазоне (вплоть до 107 Гц) нет оснований ожидать частотной зависимости проводимости носителей, находя­ щихся в делокализованных состояниях.

б) Перенос тока носителями, возбуждаемыми в локализован­ ные состояния вблизи края зоны проводимости . или валентной зоны. Эти носители перемещаются перескоками, поэтому прово-

224

Глава 7

 

димость их,

как показано в гл. 2

и 6, зависит от частоты как

со [In (Уфоц/со)]4, т. е. приблизительно

пропорционально со0 -8 , когда

© <С v(i)ou (фиг- 7.13). Эта проводимость должна быть значительно больше, чем перескоковая проводимость на постоянном токе, поэтому для определения той частоты, начиная с которой становится справедливым закон «в0 , 8 , нужно сравнить проводимости на пере­ менном и на постоянном токе. Температурная зависимость перескоковой проводимости на переменном токе должна быть той же, что и для соответствующей части проводимости на постоянном токе. Так, например, для валентной зоны она должна быть про­ порциональна ехр { — ( E F — Е в)/кТ}.

в) Перескоковый перенос носителями с энергиями вблизи уровня Ферми [при условии, что плотность состояний на уровне Ферми N (Ер) конечна]. Частотная зависимость проводимости для этого случая должна быть той же, что и для случая «б». Однако теперь уже отсутствует экспоненциальная зависимость от тем­ пературы и проводимость должна быть пропорциональна тем­ пературе, если тепловая энергия много меньше ширины запол­ ненной части дефектной зоны. В противном случае проводимость не должна зависеть от температуры. В работе Дэвиса и Мотта [122] была использована формула, полученная Остином и Моттом 132] (см. также 2.10),

о(а)=^пе2кТ

[N(Ер)]2а~ьа

[ i n ( 7 . 1 5 )

В работе Поллака [419] обсуждаются предположения, необходи­ мые для вывода этой формулы; главное из них заключается в том, что в процессе перескока участвуют лишь два центра, участием большего числа центров можно пренебречь. В формуле, получен­ ной Поллаком, вместо множителя я/3 фигурирует величина л;3/96. Если принять во внимание поляронный эффект, то выражение для проводимости окажется более сложным.

Проводимость на переменном токе (7.15) следует сравнить с величиной перескоковой проводимости на постоянном токе, обусловленной электронами с энергиями вблизи уровня Ферми

(см.

7.4.2)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а(0) =

ст2 ехр( —

^

)

,

(7.16)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а2

= e 2

E % 0 H i V (Ер) е-*°*.

 

(7.17)

Если

считать N

(EF)

= (AW^R3)'1,

то

для

отношения

проводи-

мостей получим

следующую формулу:

 

 

 

^ - T - l ^ T S r - n t ^ l ^ - ) ] ' ^ ^ ) - СМ


 

 

Некристаллические

полупроводники

 

 

225

Она позволит нам оценить. граничную частоту,

при

которой

это

отношение равно

единице. Если принять Т = 300 К,

а - 1 =*8 Л,

R =

60 А, Уфон =

Ю 1 2 Гц и AW2 »

0,1 эВ, то граничная частота

будет

составлять

примерно 3 кГц.

Это значение

зависит от

ука­

занных параметров, причем наиболее сильно от произведения aR. На фиг. 7.14 схематически показаны частотные зависимости проводимости, которые следует ожидать для трех перечисленных

выше механизмов

перено­

 

 

са. Процессы

«б»

 

и

«в»

 

 

при высоких частотах при­

 

 

водят к зависимости ст ~

 

 

—со0 -8 . В эксперименталь­

 

 

ных условиях

будет

доми­

 

 

нировать тот механизм, ко­

 

 

торый

при

данной

 

темпе­

 

 

ратуре обусловливает наи­

 

 

большую

проводимость.

 

 

Это означает, что прово­

 

 

димость, связанная

с

пе­

 

 

рескоками

электронов

с

 

 

энергиями

вблизи

края

 

in ш

зоны,

не

будет

наблю­

Ф и г . 7.14.

Схематический вид частотной

даться

ни при

каких

ча­

зависимости

электропроводности для трех

стотах,

что

относится

к

механизмов переноса.

кривой

«б»

на

фиг.

7.14.

 

 

Если бы зависимость проводимости для случая «б» переходила в асимптотический предел со0 '8 при более низких частотах, чем прово­ димость для случая «в», то ни при каких частотах не проявлялся бы механизм «в». Экспериментально случаи «б» и «в» можно различить по температурной зависимости проводимости. Как было отмечено выше, механизм «б» описывается активационным законом с энер­ гией активации, приблизительно равной половине ширины запре­ щенной энергетической зоны.

Измерения проводимости на переменном токе в диапазоне частот от 102 до 105 Гц обычно проводятся на мостовой схеме с использованием чувствительного индикатора-нуля. Эксперимент усложняется при малом тангенсе угла диэлектрических потерь. Тогда форма образца выбирается такой, чтобы потери были по воз­ можности максимальными. Вплоть до частот порядка 107 Гц, соответствующих верхнему пределу для электронных цепей, может быть также использован куметр. При более высоких часто­ тах используется микроволновая техника: линии задержки до 101 0 Гц и волноводы до 101 2 Гц. Действительная и мнимая части проводимости обычно соответствуют эквивалентной схеме образца, представляющей собой параллельное включение сопро­ тивления и емкости. При этих измерениях можно определить

1 5 - 0 1 1 4 2


226 Глава 7

также диэлектрическую проницаемость, диэлектрические потери, показатель преломления и оптический коэффициент поглощения. Для установления механизма переноса весьма существенно знание

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

частотной

зависимости

 

этих

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

параметров.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На фиг. 7.15 приведены ча­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

стотные

зависимости

проводи­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мости для

нескольких

халько-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

геиидов

последних

главах

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

будут приведены

результаты и

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

для ряда других аморфных по­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

лупроводников).

При

частотах

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

выше 106 Гц проводимость соот-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ветствз^ет

закону

со0 -8 . В работе

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ДэвисаиМотта [122] эти резуль­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

таты были объяснены

на

основе

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

гипотезы

о

перескоках

между

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

локализованными

состояниями

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с энергией вблизи уровня Фер­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ми. В пользу такого механизма

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

свидетельствует

слабая

темпе­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ратурная

зависимость

проводи­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мости, которая была обнаруже­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

на Оуэном

[396],

Оуэном и Ро-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

бертсоном [398] и Ивкиным и

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Коломийцем [258] (см. гл. 9).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Перенос путем перескоков

меж­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ду локализованными

состояни­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ями вблизи края зоны характе­

Ф и г.

7.15.

 

Частотная

зависимость

ризуется

очень сильной

темпе­

проводимости

некоторых

халькоге-

ратурной

зависимостью,

и

поэ­

S i u G e i i , ;

нидных стекол.

 

3 .

К р и ­

тому такой механизм не соответ­

4,

ASjSe 3 ;

5

A s 2 S

ствует наблюдаемым' свойствам.

1 — А Б 2 Т е 8 ;

2

T e 2

A s S i ;

3

 

Т е 4 А А 8 Э 0

 

 

 

 

 

 

 

вые

1—3

взяты

из

работы

[ 4 3 6 ] ,

 

кривая

Принятой модели

соответствует

4 — ив работы

[258], кривая

5 —

из р а б о ­

выражение

(7.15)

для

проводи­

 

 

 

 

ты

[ 3 9 8 ] .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мости; оно позволяет вычислить

плотность состояний на уровне Ферми N (EF),

когда эксперимен­

тально найдено значение проводимости. Если принять Т =

300 К,

v $ 0 H

= Ю " Гц и со = 10в с-\ то

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

[JV(£F )]2 =

6,4 . 10 4 9 a(m)a B ,

 

 

 

(7.19)

где

параметр

а

выражен

в

обратных ангстремах

и N (EF

) —

в с м ~ 3 - э В - 1 . Согласно этому соотношению, на фиг. 7.16

построено

семейство прямых для различных значений радиуса локализован­ ного состояния а - 1 . В выборе этого параметра имеется некоторая неопределенность, причем кажется маловероятным, что различные


Некристаллические полупроводники

227

материалы характеризуются одним и тем же значением а. Для

аморфных полупроводников, показанных

на фиг. 7.15, значения

N (EF)

лежат в интервале от 101 8 до 102 1

с м ~ 3 - э В - 1 , если принять

а"1 =

8 А.

 

Следует отметить интересную корреляцию между величиной плотности состояний N (EF), полученной таким способом, и шири­ ной запрещенной зоны этих материалов. На фиг. 7.17 по оси абсцисс отложена проводимость при со = 106 с , а по оси орди­ нат — проводимость на постоянном токе, все данные получены

Ф и г. 7.16. Теоретическая зависимость высокочастотной проводимости от плотности состояний на уровне Ферми, вычисленная при со = 1 0 6 с - 1 для различных значений радиальной протяженности локализованной волновой

функции а - 1 .

К р и в ые построены для

Т =

300 К

и Г ф о н =

1 0 1 2

Гц

па основе уравнения (7.19). К р и в ы е

 

 

1—4

соответствуют

а - 1 =

3,

5, 8, 12 А .

 

при

Т — 300 К.

Кроме

того, внизу

приведена

плотность состоя­

ний

на уровне

Ферми

N (EF),

а

на

правой

шкале — энергия

активации Е проводимости (т. е. примерно половина щели подвияшости). Если обратить внимание на то, что плотность состоя­ ний N (EF) возрастает при уменьшении щели Е, то, казалось бы, можно рассматривать это обстоятельство как подтверждение гипотезы Коэна — Фрицше — Овшинского, которые предло­ жили модель, показанную на фиг. 7.4, в. Согласно этой модели, плотность состояний на уровне Ферми обусловлена перекрытием «хвостов» зоны проводимости и валентной зоны. Однако получен­ ные значения TV (EF) дают очень большое полное число состояний

15*


228

Глава 7

в запрещенной зоне, которое, как нам представляется, совер­ шенно несовместимо с фактом хорошей прозрачности материала при энергиях фотона меньше края фундаментального поглощения.

 

 

 

 

 

-

0,3

 

«г

 

 

 

 

-

0 4

 

 

 

 

 

 

 

I

 

 

 

 

-

0,5

 

 

 

 

 

 

 

 

70"

 

 

 

 

-0,6

 

 

 

 

 

 

-

0,7

 

 

 

 

 

 

-

0,8

го'"

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ь

 

 

 

 

-

0,9

 

10'"

 

 

 

 

-

1,0

 

 

 

 

 

 

 

ю-'5

 

 

 

 

-

1,1

 

 

 

 

 

 

 

_ 1 _

_ 1

_

 

 

-1,2

 

 

 

 

 

 

/0 - '"

10-

10''

10'" 10"

10* !0'J

 

 

 

 

 

а(ш),

Ом''-см''

приЗООК

иЮвс-'

 

 

10"

1019

 

10 е

 

 

 

 

 

N(EF),

•зВ

 

 

 

 

Ф и г . 7.17. Зависимость проводимости на постоянном токе а (0) от высоко­

частотной проводимости а (со) при со =

10° с - 1 для различных халькогоиид-

ных стекол при комнатной температуре

[122].

 

Т О Ч КИ 1—7 соответствуют стеклам: l — A 8 j S 3

; 2 — A s , S s ( A g ) ; з — As,Se 3 ; 4 — A s 3 S e 3 ( A g ) ;

5 — T e 4 S A B 3 0 S i i s G e , 0 ; 6 — T e j A s S i ; 7 А Б , Т С З -

 

Показана также плотность СОСТОЯНИИ на уровне Ферми N (Ер) и эначения энергии акти ­

вации проводимости на постоянном токе Е. Заметим, что величина Е приблизительно равна половине оптической щели или щели подвижности в этих материалах.

Если же, следуя Дэвису и Мотту [122, 373], допустить, что состоя­ ния вблизи уровня Ферми сосредоточены в сравнительно узкой полосе шириной порядка 0,1 эВ, то полная плотность состояний окажется гораздо меньше.

Если предположить, что дефектная зона образуется из един­ ственного вида точечных дефектов, то нижний предел ее ширины можно оценить следующим образом. Пусть R есть среднее рас­ стояние между центрами. Используя теорию проводимости по

примесям (см. 6.2), мы можем заметить, что ширина зоны /

должна

быть по крайней мере порядка егЫЯ. При этом плотность

состоя­

ний, распределенных по этой зоне, приближенно определяется

из условия (4я/3) R3N (Ер) JI2 = 1,

так что

 

е з [jv ( а д ] 1

/ г

(7.20)

3 /2