Файл: стр_193-222___Metody_analiza_i_kontrolya_veshch (1).docx
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 10.04.2024
Просмотров: 495
Скачиваний: 1
СОДЕРЖАНИЕ
Глава 1. Отбор и подготовка пробы к анализу
1.4. Отбор пробы твердых веществ
1.6. Потери при пробоотборе и хранение пробы
1.7. Подготовка пробы к анализу
Глава 2. Статистическая обработка результатов
2.1. Погрешности химического анализа. Обработка результатов измерений
2.3. Оценка точности и правильности измерений при малом числе определений
2.4. Доверительный интервал и доверительная вероятность (надежность)
2.5. Аналитический сигнал. Измерение
Глава 3. Спектральные методы исследования веществ
3.1. Абсорбционная спектроскопия
3.1.1.1. Выбор длины света и светофильтра в фотометрическом анализе
3.1.1.2. Основные приемы фотометрического анализа
3.1.1.3. Анализ смеси окрашенных веществ
3.1.1.4. Аппаратура, используемая в анализе
3.1.1.5. Нефелометрия и турбидиметрия
3.1.2. Атомно-абсорбционная спектроскопия
3.1.2.2. Аппаратура, используемая в анализе
3.2. Эмиссионный спектральный анализ
3.2.1. Происхождение эмиссионных спектров
3.2.6. Аппаратура, используемая в анализе
3.2.6.1. Принцип работы универсального стилоскопа
3.2.6.2. Принцип работы спектрографа
3.2.6.3. Принцип работы микрофотометра
3.3.1. Чувствительность анализа
3.3.2. Количественное определение элементов
3.3.3. Измерение интенсивности излучения
3.3.4. Методы определения концентрации растворов в фотометрии пламени
3.4. Методы колебательной спектроскопии. Ик-спектроскопия и спектроскопия комбинационного рассеяния
3.4.2. Спектры ик и комбинационного рассеяния (кр)
3.4.3. Аппаратура, используемая в анализе
3.5.1. Классификация и величины, характеризующие люминесцентное излучение
3.5.3. Аппаратура, используемая в анализе
3.6. Рентгеновская спектроскопия
3.6.1.1. Взаимодействие рентгеновского излучения с веществом
3.6.2. Рентгено-эмиссионный анализ
3.6.2.2. Количественный анализ
3.6.3. Рентгенофлуоресцентный анализ
3.6.3.1. Основные виды рентгенофлуоресцентного анализа
3.6.4. Рентгено-абсорбционный анализ
3.7. Радиоспектроскопические методы
3.7.2. Электронный парамагнитный резонанс
3.7.3. Ядерно-магнитный резонанс
3.7.4. Ядерный квадрупольный резонанс
3.7.5. Другие методы радиоспектроскопии
3.8.4. Нейтронная спектроскопия
3.10. Электронная спектроскопия
3.10.1. Фотоэлектронная спектроскопия
3.10.2. Спектроскопия характеристических потерь энергии электронов
3.12. Ультрафиолетовая спектроскопия
Глава 4. Масс-спектрометрический метод анализа
4.1. Принцип действия масс-спектрометра
4.4. Интерпретация масс-спектров
Глава 5. Хроматографические методы
5.1. Классификация хроматографических методов
5.2. Хроматографические параметры
5.3. Теория хроматографического разделения
5.4. Теория теоретических тарелок
5.5. Кинетическая теория хроматографии
5.9.1. Газотвердофазная хроматография
5.9.2. Газожидкостная хроматография
5.10. Жидкостная хроматография
Глава 6. Электрохимические методы
6.1. Основные понятия электрохимии
6.1.1. Электрохимическая ячейка и ее электрический эквивалент
6.1.2. Индикаторный электрод и электрод сравнения
6.1.4. Электрохимические системы
6.1.4.1. Равновесные электрохимические системы
6.1.4.2. Неравновесные электрохимические системы
6.2.1. Прямая потенциометрия (ионометрия)
6.2.2. Потенциометрическое титрование
6.3.2. Кулонометрическое титрование
6.4.1. Амперометрическое титрование
6.4.2. Титрование с двумя индикаторными электродами
6.5. Кондуктометрический метод анализа
Глава 7. Методы термического анализа
7.2. Метод дифференциального термического анализа
7.3. Дифференциальная сканирующая калориметрия
7.5. Дилатометрия и другие термические методы анализа
Глава 8. Дифракционные методы анализа
8.2. Методы дифракционного анализа
Глава 9. Микроскопические методы анализа
9.2.1. Растровая электронная микроскопия
9.2.1.1. Аппаратура метода рэм
9.2.1.2. Использование вторичных и отраженных электронов в рэм
9.2.1.3. Типы контраста в растровой электронной микроскопии
9.2.1.4. Выбор условий работы рэм и подготовка образцов
9.2.1.5. Объекты исследования и их подготовка
9.2.2. Просвечивающая электронная микроскопия
9.2.2.1. Общая характеристика пэм
9.2.2.3. Разновидности метода пэм
9.3. Сканирующие зондовые методы исследования
9.3.1. Сканирующая туннельная микроскопия
9.3.2. Атомно-силовая микроскопия
9.3.3. Магнитосиловая зондовая микроскопия
290
пает в разрешении прямому. Разрешение лимитируется точностью са- мой реплики и достигает в лучшем случае (углеродные реплики) не- сколько нм. Кроме того, возможно появление различных искажений и артефактов в процессе изготовления самой реплики. Поэтому этот ме- тод применяется в настоящее время достаточно редко. Многие его зада- чи, в том числе фрактография, в значительной мере решаются теперь методами растровой электронной микроскопии.
Полупрямой метод иногда применяют при исследовании гетеро- фазных сплавов. В этом случае основную фазу (матрицу) изучают с по- мощью реплик (косвенный метод), а частицы, извлеченные из матрицы в реплику, исследуют прямым методом, в том числе и с помощью мик- родифракции. При этом методе реплика перед отделением разрезается на мелкие квадратики, а затем образец протравливают по режиму, обес- печивающему растворение материала матрицы и сохранение частиц других фаз. Травление проводят до полного отделения пленки-реплики от основы. Особенно удобен метод при изучении мелкодисперсных фаз в матрице при малой объемной их доле. Отсутствие у реплики соб- ственной структуры позволяет исследовать дифракционные картины от частиц. При прямом методе такие картины выявить и отделить от кар- тины для матрицы очень сложно.
9.3. Сканирующие зондовые методы исследования
Данная группа методов является наиболее широко используемой в области наноматериалов и нанотехнологий.
Основная идея всех методов данной группы заключается в исполь- зовании зонда – устройства считывания информации с поверхности ис- следуемого материала.
Все методы сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ) основаны на одном принципе действия: острый зонд подводится к исследуемой поверхности на расстояние порядка 1 нм. В результате приближения между образцом и зондом устанавливается физическое взаимодействие, силу которого можно измерить. Интенсивность измеряемого сигнала за- висит от расстояния зонд–образец, что используется для контроля дан- ного расстояния. Относительное перемещение зонда и образца (скани- рование) реализуется с помощью пьезокерамического сканера, который изменяет размеры под воздействием прикладываемого напряжения.
Основное отличие между различными разновидностями методов СЗМ (сканирующая туннельная микроскопия – СТМ, сканирующая ближнепольная оптическая микроскопия, атомно-силовая микроскопия (АСМ), магнитно-силовая микроскопия, ближнепольная акустическая
291
микроскопия и т. д.) лежит в типе взаимодействия, который использует- ся для контроля расстояния зонд–образец.
Несмотря на то, что количество вариантов СЗМ достаточно много- численно, оно продолжает расти, что позволяет получать дополнитель- ную информацию не только топографическую, но и о поверхностных свойствах образцов.
В большинстве случаев в качестве рабочего тела зонда использует- ся алмазная игла с радиусом при вершине порядка 10 нм. С помощью высокоточного позиционирующего (сканирующего) механизма зонд пе- ремещают над поверхностью образца по трем координатам. Как прави- ло, имеется два диапазона перемещения зонда: грубое перемещение с относительно низкой точностью и высокой скоростью и точное пере- мещение с достаточно низкой скоростью и высокой точностью позици- онирования до 0,1–1 нм. Большая точность позиционирования обеспе- чивается, как правило, по высоте. Сигнал от зонда обрабатывается с по- мощью компьютера и преобразуется в трехмерное изображение. Для обработки снимаемых сигналов, их фильтрации и корректировки ис- пользуются специальные пакеты программ. Стоимость и размеры зон- довых микроскопов значительно ниже, чем у электронных, а возможно- сти вполне соизмеримы. Для ряда вариантов зондовой микроскопии наличие вакуума не требуется, материалы исследования могут быть са- мые разнообразные, в том числе изоляторы, полупроводники, биологи- ческие объекты. При этом исследования могут проводиться без суще- ственного повреждения объекта и с достаточно простой подготовкой его поверхности (например, только полировка отдельного участка).
Достоинства метода сканирующей микроскопии: сверхвысокое разрешение (атомного порядка, 10
-2 нм); возможность размещать обра-
зец не в вакууме (как в электронных микроскопах), а в обычной воз- душной среде при атмосферном давлении, в атмосфере инертного газа и даже в жидкости, что особенно важно для изучения гелеобразных и макромолекулярных структур (белков, ДНК, РНК, вирусов).
По принципу синтеза изображений (с помощью электронных ска- нирующих систем) и диапазону объектов анализа метод сканирующей микроскопии тесно связан с электронной микроскопией.
9.3.1. Сканирующая туннельная микроскопия
Туннельная сканирующая микроскопия (СТМ, STM) – метод иссле- дования структуры поверхности твердых тел, позволяющий четко визу- ализировать на ней взаимное расположение отдельных атомов.
292
Метод СТМ является основоположником всего семейства методов СЗМ. Первый сканирующий туннельный микроскоп был создан в 1981 году Гердом Биннигом и Генрихом Рорером (в 1986 г. – Нобелевская премия). Изначально метод СТМ создавался как метод, позволяющий исследовать топографию поверхности металлов с высоким (вплоть до атомарного) разрешением в сверхвысоком вакууме. Позже метод был применен для исследования других материалов, таких, как полупровод- ники, тонкие непроводящие пленки или биологические молекулы в раз- личных условиях (вакуум, воздух или жидкость).
Туннельная сканирующая микроскопия основана на туннельном эффекте.
Туннельный эффект – квантовый эффект, состоящий в проникно- вении квантовой частицы сквозь область пространства, в которой со- гласно законам классической физики нахождение частицы запрещено. Классическая частица, обладающая полной энергией E и находящаяся в потенциальном поле, может пребывать лишь в тех областях простран- ства, в которых ее полная энергия не превышает потенциальную энер- гию взаимодействия с полем. Поскольку волновая функция квантовой частицы отлична от нуля во всем пространстве и вероятность нахожде- ния частицы в определенной области пространства задается квадратом модуля волновой функции, то и в запрещенных (с точки зрения класси- ческой механики) областях волновая функция отлична от нуля.
В туннельном сканирующем микроскопе (рис. 9.17) система пьезо- кристаллов, управляемая компьютером, обеспечивает трехкоординатное перемещение металлического зонда на расстоянии порядка 0,1 нм от ис- следуемой поверхности. Между ней и зондом прикладывают напряже- ние примерно 1 В. В зазоре возникает туннельный ток величиной около 1–10 нА, который зависит от свойств и конфигурации атомов на иссле- дуемой поверхности материала. Этот ток регистрируется приборами.
Туннельным этот метод называется в связи с тем, что ток возникает вследствие туннельного эффекта, а именно квантового перехода элек- трона через область, запрещенную классической механикой.
Если между иглой и образцом прикладывается небольшое электри- ческое напряжение (Ut), через промежуток порядка ∼1 нм начинают происходить туннельные переходы электронов, т. е. начинается проте- кание так называемого «туннельного тока» (It).
293
Рис. 9.17. Принцип работы ТСМ
Упрощенная формула для туннельного тока (случай одномерного потенциального барьера)
bdexpU~adexpU~I ttt
2 1
, (9.2)
где It – туннельный ток; Ut – прикладываемое напряжение; d – величина туннельного промежутка (расстояние между иглой и поверхностью об- разца); θ – средняя высота потенциального барьера между двумя элек- тродами; а, b – константы.
Таким образом, в простейшем случае туннельный ток экспоненци- ально зависит от ширины и высоты барьера (соответственно d туннель- ного промежутка, а также от работы выхода материалов образца и иг- лы). Эта экспоненциальная зависимость обуславливает высокую разре- шающую способность СТМ, прежде всего по высоте, и делает возмож- ным достижение атомарного разрешения.
Компьютер управляет вертикальным перемещением зонда так, что- бы ток поддерживался на заданном постоянном уровне и горизонталь- ными перемещениями по осям х и у (сканированием). Воспроизводимое на дисплее семейство кривых, отвечающих перемещениям зонда, явля- ется изображением эквипотенциальной поверхности, поэтому атомы изображаются полусферами различных радиусов.
Различают два крайних варианта записи СТМ-изображения: режим «постоянного туннельного тока» и «постоянной высоты зонда». В ре- жиме постоянного тока («топографическом») система обратной связи постоянно регистрирует туннельный ток и вносит корректировки в вы- соту зависания иглы, управляя при этом двигателями подачи иглы так, чтобы величина заданного туннельного тока оставалась постоянной в каждой точке сканирования. Игла при этом остается всегда на одном и том же расстоянии от поверхности, и коррекция высоты иглы прямо отражает рельеф поверхности образца. Происходящее при этом верти-
294
кальное по отношению к плоскости сканирования перемещение пьез- опривода отражает геометрию поверхности.
В режиме «постоянной высоты» или быстрого сканирования цепь обратной связи не отслеживает профиль поверхности (не изменяется положение иглы), но при этом регистрируются изменения туннельного тока и строение поверхности описывается в виде массива. Последний режим полезен при исследовании с атомарным разрешением относи- тельно ровных поверхностей, таких, например, как монокристаллы, так как при фиксированном положении иглы проще обеспечить механиче- скую стабильность системы в целом, а изменения туннельного тока очень чувствительны к изменению туннельного промежутка d. Данный режим не применим для исследования образцов с неизвестной морфоло- гией, шероховатых поверхностей, так как велика вероятность повре- ждения иглы. В связи с этим наибольшее распространение получил ре- жим постоянного тока.